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自发射荧光猝灭测定Gemini阴离子表面活性剂胶团聚集数.pdf
第 卷 第 期 光 谱 学 与 光 谱 分 析
2 6 4 VOl . 26 NO. 4 pp682-685
年 月
2 0 0 6 4 SpectrOscOpy and Spectral Anal ysis April 2006
自发射荧光猝灭测定 阴离子表面活性剂胶团聚集数
Ge mi ni
刘金彦!赵剑曦。 !杨连枝
福州大学化学化工学院应用化学系 福建 福州
350002
摘 要 表面活性剂 分子联接链上的对苯氧基在激发下自发射荧光 当浓度超过
Ge mi ni C pP ~CNa 0. 45
- 时 激发光谱谱带的拓扑结构发生一系列变化 导致不同于对应的吸收光谱 由于联接链上的对
mmOl L
苯氧基明显猝灭了外加探针芘发射的荧光 所以不能用传统的方法测定这类胶团的聚集数 文章利用甲基
紫精 2 + 可有效猝灭 分子自发射荧光的原理 建立了测定这类胶团平均聚集数的方法 由
C MV C pP ~CNa
该方法获得 胶团平均聚集数为 在溶液体相摩尔比为 的
C pP ~CNa 20. 6 ; 3 = 7 C pP ~CNa/ C 2-S2- E - C 2
体系中 混合胶团的平均聚集数为
2 Br . 8
主题词 自发射荧光猝灭 胶团聚集数
;
中图分类号 文献标识码 文章编号
!O648. !A ! 000-0593 2006 #04-0682-04
力[8- 0 ] 所谓的
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