4、测试薄层电阻的原理分析-电阻率测试
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BeiJing XIHE-Sun Science?Co., Ltd. September ,2010
四探针技术测量薄层电阻的
原理及应用
刘新福,孙以材,刘东升
(河北工业大学微电子技术研究所)
1、摘要
本文对四探针技术测试薄层电阻的原理进行了综述,重点分析了常规直线四探针法、改进范德堡法和斜置式方形Rymaszewski 法的测试原理,并应用斜置式Rymaszewski 法研制成新型的四探针测试仪,利用该仪器对样品进行了微区(300μm×300μm)薄层电阻测量,做出了样品的电阻率等值线图,为提高晶锭的质量提供了重要参考。
关键词:四探针技术、薄层电阻、测试技术
中图分类号:TN304.07
文献标识码:A
文章编号:1003-353X(2004)07-0048-05
2、引言
许多器件的重要参数和薄层电阻有关,在半导体工艺飞速发展的今天,微区的薄层电阻均匀性和电特性受到了人们的广泛关注。随着集成电路研究的快速发展,新品种不断开发出来,并对开发周期、产品性能(包括IC的规模、速度、功能复杂性、管脚数等)的要求也越来越高。因此不仅需要完善的设计模拟工具和稳定的工艺制备能力,还需要可靠的测试手段,对器件性能做出准确无误的判断,这在研制初期尤其重要。四探针法在半导体测量技术中已得到了广泛的应用,尤其近年来随着微电子技术的加速
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