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;金属氧化物催化剂组成:常为复合氧化物(Complex oxides),即多组分氧化物。如VO5-MoO3,Bi2O3-MoO3,TiO2-V2O5-P2O5,V2O5-MoO3-Al2O3,MoO3-Bi2O3-Fe2O3-CoO-K2O-P2O5-SiO2(即7组分的代号为C14的第三代生产丙烯腈催化剂)。组分中至少有一种是过渡金属氧化物。组分与组分之间可能相互作用,作用的情况常因条件而异。复合氧化物系常是多相共存,如Bi2O3-MoO3,就有α、β和γ相。有所谓活性相概念。它们的结构十分复杂,有固溶体,有杂多酸,有混晶等。;金属催化剂作用和功能:有的组分是主催化剂,有的为助催化剂或者载体。主催化剂单独存在时就有活性,如MoO3-Bi2O3中的MoO3;助催化剂单独存在时无活性或很少活性,但能使主催化剂活性增强,如Bi2O3就是。助催化剂可以调变生成新相,或调控电子迁移速率,或促进活性相的形成等。依其对催化剂性能改善的不同,有结构助剂,抗烧结助剂,有增强机械强度和促进分散等不同的助催功能。调变的目的总是放在对活性、选择性或稳定性的促进上。
;金属催化剂的应用:金属氧化物主要催化烃类的选择性氧化。其特点是:反应系高放热的,有效的传热、传质十分重要,要考虑催化剂的飞温;有反应爆炸区存在,故在条件上有所谓“燃料过剩型”或“空气过剩型”两种;这类反应的产物,相对于原料或中间物要稳定,故有所谓“急冷措施”,以防止进一步反应或分解;为了保持高选择性,常在低转化率下操作,用第二反应器或原料循环等。
;作为氧化用的氧化物催化剂,可分为三类:
①晶格氧:过渡金属氧化物,易从其晶格中传递出氧给反应物分子,组成含2种以上且价态可变的阳离子,属非计量化合物,晶格中阳离子常能交叉互溶,形成相当复杂的结构。②化学吸附氧:金属氧化物,用于氧化的活性组分为化学吸附型氧物种,吸附态可以是分子态、原子态乃至间隙氧(Interstitial Oxygen)。③吸附氧化层氧:原态不是氧化物,而是金属,但其表面吸附氧形成氧化层,如Ag对乙烯的氧化,对甲醇的氧化,Pt对氨的氧化等即是。;金属硫化物催化剂:
与氧化物催化剂类似,也有单组分和复合体系。主要用于重油的加氢精制,加氢脱硫(HDS)、加氢脱氮(HDN)、加氢脱金属(HDM)等过程。金属氧化物和金属硫化物大部分是半导体型催化剂。因此由必要了解有关半导体的一些基本概念和术语。
;金属氧化物中缺陷和半导体性质
满带:凡是能被子电子完全充满的能带叫满带。
导带:凡是能带没有完全被电子充满的。
空带:根本没有填充电子的能带。
禁带:在导带(空带)和满带之间没有能级不能填充电子这个区间叫禁带。半导体的禁带宽度一般在0.2-3eV。
;催化中重要的半导体是过渡金属氧化物或硫化物。半导体分为三类:本征半导体、n-型半导体和p型半导体。具有电子和空穴两种载流子传导的半导体,叫本征半导体。这类半导体对催化并不重要,因为化学变化过程的温度,一般在300-700℃,不足以产生这种电子跃迁。依靠与金属原子结合的电子导电,叫n-型(Negative Type)半导体。靠晶格中正离子空穴传递而导电,叫p-型(Positive Type)半导体。;n-型半导体氧化物:
属n-型半导体的有ZnO、Fe2O3、TiO2、CdO、V2O5、CrO3、CuO等,在空气中受热时失去氧(留下电子),阳离子氧化数降低,直至变成原子态。
p-型半导体氧化物:
属于p-型半导体的有NiO、CoO、Cu2O、PbO、Cr2O3等,在空气中受热获得氧(电子转移到氧),阳离子氧化数升高,同时造成晶格中正离子缺位。;n-型半导体和p-型半导体氧化物都是非计量化合物。
如在n-型半导体ZnO1-x中,缺氧存在有Zn++离子的过剩,由于晶格要保持电中性,过剩的Zn++离子拉住一个电子在附近,形成成eZn++,在靠近导带附近形成一附加能级。这个电子可以认为是施主,所在的能级为施主能级。当温度升高,电子跃迁到空带形成导带。接受电子的能级为受主能级;p-如在型半导体NiO1+x中,由于过剩O,从而产生正离子空穴(+),这是NiO导电的来源。正离子空穴(+)为受主能级,价带电子所在的能级为施主能级。;n型半导体与p型半导体的生成条件;半导体费米能级EF与逸出功Φ的关系;EF能级在过渡金属和半导体中的区别;N型半导体掺杂;p型半导体掺杂;如何判断参杂杂质类型;杂质对半导体导电性的影响;1、对n型半导体
A)加入施主型杂质,EF↗Φ↘导电率↗
B)加入受主杂质, EF ↘ Φ ↗导电率↘
2、对p型半导体
A)加入施主型杂质EF↗Φ↘导电率↘
B)加入受主型杂质EF ↘ Φ ↗导电率↗;半导体催化剂化学吸附;(2)p型半导体上吸附
O2相当于受主杂质,可接受满带的电子增加满带
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