芯片加工工程中有害气体处理方法探讨.pdfVIP

芯片加工工程中有害气体处理方法探讨烷类金属????????如??ぃ琓???ǎ皇纯唐?濉Ｖ饕0??彼氐穆被?锛?原子的气体，如?耄琍如，?池等；反应气体。以碳系及氮系氢、氧化物为主如李建树贾力??ひ沼泻ζ?宓奈锢硖匦院头从????????珽?日，???，?月?Ⅳ，应法或湿式化学反应法处理，也可以用触媒反应分解。高温环境下，反应如下：中工程热物理学会学术会议论文目前，?产业的生产过程中产生的有害气体污染环境问题，已经引起国际学术界和企业的重视。半导体生产中的蚀刻和清洗工艺出现氯氟烃???腿ǚ????等气体，这些气体造成温室效应的潜在威胁远远高于???绫?所示。????–。?，?；，??＃琒?琋?，和??５?已被京都公约列入防止地球温室效应的管制气体，它们通过吸收来自地球表面的长波辐射造成地球温升，其作用时间是??氖?П渡踔辽?万倍。国际半导体理事会已经通过提案，要求??年降低??排放量?％。环境污染的控制直接影响市场竞争和人类生存，因此世界各国都在采取措施降低??蚉?气体的排放量。半导体加工过程中常用到的气体有?鹗羝?喑粱??澹??ê?被?鹗艏坝谢?卤碳化合物，如?：，?????珻?，??龋徊卧悠?濉：?稹⒘住⑸榈热?寮拔遄??，??癗?等。清洗过程中用到的气体，?．，?‘。嘲，等．六氟乙烷?：??且恢治奚ǎ?豢扇嫉钠?澹?ǔ２捎们炕?忌张浜锨?交?Х?传热传质编号：?????北京建筑工程学院，???北京北方交通大学机电学院动力系，???北京电话：???????缱有畔洌??鲤?皿?辏??垡：?#?旦摘受；本文介绍了半导体芯片加工过程中产生有害气体的处理方法，通过对几种处理技术的分析比较，提出了采用高温空气燃烧技术代替传统电加热和燃料燃烧的可能性。关键词：温室效应气体；高温空气燃烧技术；反应机理存在时间??温室效应作用时间??年?四氟化碳三氟甲烷六氟化硫三氟化氮八氟丙烷二氧化碳分子式名称六氟乙烷?．???，?????—?，??????．??—???一??·??， 砉ひ沼泻ζ?宓姆椒?氨冉??、???专????四氟化碳???是一种无色，相对无毒，不可燃的气体，通常采用强化燃烧配合干式化学反应法或湿式化学反应法处理，也可以用触媒反应分解，但是这几种方法处理效果都不令人满意。其分解反应温度比??高，高温环境下，反应如下：硅烷是一种无色，有毒，具有自燃性的气体，可以通过强化燃烧、干式化学反应法或湿式化学反应法进行处理。反应如下：????、—÷????，?半导体晶片制造和加工中，经常采用的方法是化学蚀刻和气相沉积法，工艺过程中将产生固体颗粒、四乙基硅酸盐???和有害气体，如?、????、?、??、?篎?取Ｓ行Х纸饣蛳??庑┯泻Τ煞菔巧??庸さ墓丶?怨ひ罩?唬?彩腔肪潮；?的需要。当今国际上一般都是将废气?锘蚩帕?收集浓缩后，利用特殊电子诱导加热方法???统?洞呋?纸庀低撤椒?????写?怼??方法使用电感应热源，将有害气体加热至???左右，使其发生分解和重新化合，然后经过两级水冷系统将尾气降至??以下，再经陶瓷过滤器除尘后排入大气。??气体处理系统采用催化分解的方法，首先在前处理设备中除去有害气体中的水溶性气体、固体颗粒和四乙基硅酸盐???，然后与空气、水混合，在加热器中加热至??妫?僭诖呋?恋淖饔孟拢?蛊?宸纸獠⒅匦禄?铣蒀?：虷???淙春统?酸后最终以??头???男问脚懦觥８孟低惩??梢杂糜诎氲继逍酒?圃旌褪纯坦?程所产生的有毒气体。??电子诱导加热方法???尤确纸饬鞒掏肌?图? ⒏呶驴掌?忌占际踉诎氲继逵泻ζ?宕?矸矫娴挠τ?尽管这些方法具有处理效率高、排放少低等优点，主要消耗是电、水和催化物质等，但是，上述方法中，均以电力作为主要能源，高温热能浪费大、运行成本很高，应用化学催化物质还会进一步增加运行成本。处理过程甚至会产生新的污染，例如前处理设备和氟化水等，均需认真对待。目前还存在着一些其他处理技术。一些用来燃烧硅烷的燃烧分解炉可以用来处理??，并取得了不同程度的成功。在适当的流量和浓度下，燃烧炉可以有效地用于?篎?的处理。但是由于?的分解温度相当高，一般燃烧炉分解?‘的难度很大，而且通常只能采用?鹤魑H剂希?荒懿捎锰烊黄?剂希??岣呷忌瘴露仁且訬?５母吲欧抛魑4?价的。有数据显示，典型的燃烧炉对??的分解率高达?％，但对?的处理率只有利用多孔介质处理??的化学分解系统和热力分解系统也是国外研究的一个方向。这些系统可以用来处理氢化物，处理??时需要不同的化学添加剂和更高的温度。这些固定填充床系统存在着一些问题，例如堵塞、背压、加热元件的功率有限、清理困难等。微波加氧系统在处理??方面也在研究之中。所有这些设备都安装在真空泵的上游，这样可以不考虑氮气稀释的影响。高温空气燃烧技术”????????，简称???前耸?年代末国际上提出的全新概