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- 2017-05-03 发布于河南
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第二章非致冷型红外焦平面阵列原理; 本章主要介绍热探测器件的红外阵列的原理以及主要的限制。;
成像元件是受单元探测器吸收的辐射光所影响。
入射光能量下温度增加的热流量公式,温度的增加依赖于探测机构。
最重要的探测器件是电阻型测辐射热计。
; 传感器受入射红外辐射光加热温度变化由以下方式测的:;
热探测像素阵列,每个像素包括一个连接到衬底的敏感区。红外辐射光照在一个探测像素上,被敏感区域吸收,引起其温度升高,热量从敏感区流向周围的环境。
;
热传导,
热对流,
热辐射。
;1)热量敏感区沿支撑物向衬底;
2)如果像素之间是相邻的话,热量从一个像素直接流向邻近的另外一个像素,这被称作横向热流通。必须加以避免,因为它会影响景物像的分辨率;
3)如果阵列没有固定在一个抽空的封装盒里,热量会流向周围的大气。;;热辐射是第三种热传递方式。
敏感元件向周围辐射热量,周围环境也向其辐射热量。对热成像阵列这是理想状况。
如果主要热损失是辐射性的,则阵列是受背景限制,这种限制对于工作性能影响是非常大。;
支撑结构是取得高性能热成像阵列的关键。
;支撑结构具有三项功能:
热机械支撑;
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