光通信基础回顾第2章 光纤.ppt

第2章 光纤 ;2.8 光纤的模式色散 2.9 单模光纤的波长色散或色度色散 2.10 光纤的损耗 2.11 单模光纤 2.12 光纤的非线性效应 2.13 光孤子的定性描述 习题二 ;2.1 光 纤 与 光 缆 ; 由纤芯和包层组成的光纤常称为裸光纤， 这种光纤如果直接使用， 由于裸露在环境中, 容易受到外界温度、 压力、 水气的侵蚀等， 因而实际中应用的光纤都在裸光纤的外面增加了防护层, 用来缓冲外界的压力, 增加光纤的抗拉、 抗压强度， 并改善光纤的温度特性和防潮性能等。 防护层通常也包括好几层， 细分为包层外面的缓冲涂层， 加强材料涂覆层以及最外一层的套塑层。 光纤的套塑方法有两种： ; 紧套和松套。 紧套是指光纤在二次套管内不能自由松动； 而松套光纤则有一定的活动范围。 紧套的优点是性能稳定， 外径较小但机械性能不如松套， 因为紧套无松套的缓冲空间， 易受外力影响。 松套光纤温度性能优于紧套， 制作比较容易， 但外径较大， 为避免水分， 需要填充半流质的油膏来提高光缆的纵向封闭性能。 现在采用的套方法是发展方向。 经过涂覆、 套塑形成的光纤常称为被覆光纤或缆芯。 ;图 2.1 光纤的基本结构 ; 光纤的几何尺寸很小， 纤芯直径一般在5～50 μm之间， 包层的外径为125 μm， 包括防护层， 整个光纤的外径也只有250 μm左右。 ; 2.1.2 光纤的主要成分 目前通信用的光纤主要是石英系光纤， 其主要成分是高纯度的SiO2玻璃。 如果在石英中掺入折射率高于石英的掺杂剂， 就可以制作光纤的纤芯。 同样， 如果在石英中掺入折射率低于石英的掺杂剂， 就可以作为包层材料。 纤芯中广泛应用的掺杂剂为二氧化锗（GeO2）、五氧化二磷(P2O5)等， 包层中主要的掺杂剂为三氧化二硼（B2O3）、 氟（F）等。 ; 2.1.3 光纤的制造工艺简介 光纤是由圆柱形预制棒拉制而成的， 因而光纤的生产工艺主要包括怎样制造圆柱形预制棒和拉丝工艺。 1. 预制棒的制造方法 预制棒的制造方法主要有管内化学汽相沉积法， 如改进的化学汽相沉积法MCVD(Modified Chemical Vapour Deposition)， 等离子体汽相沉积法PCVD(Plasma Chemical Vapour Deposition)和管外化学汽相沉积法。 而管外化学汽相沉积法又分为汽相轴向沉积法VAD(Vapour Phase Axial Deposition)和外汽相沉积法OVD(Outside Vapour Deposition)两种。 ; MCVD是目前使用最广泛的预制棒生产工艺。 MCVD法生产光纤预制棒的基本原理是用氧气按特定的次序将SiO2、 GeCl4、 BCl3送入旋转的高纯硅管中， 硅管维持较高的温度， 使硅和掺杂元素(Ge、 B等)按受控方式产生化学反应。 反应的产物均匀沉积在硅管的内壁， 随着沉积不断产生， 中空的硅管逐渐被封闭。 ; SiCl4+O2 → SiO2+2Cl2↑ 4BCl3+3O2 → 2B2O3+6Cl2↑ 最后沉积光纤的纤芯， 其氧化反应过程为： SiCl4+O2 → SiO2+2Cl2↑ GeCl4+O2 → GeO2+2Cl2↑ ; 为了保证沉积的均匀性， 在整个过程中要以一定的速度旋转石英管， 并使氢氧焰喷灯以适当的速度沿石英管来回移动， 图2.2给出了其工艺示意图。 ;图2.2 用MCVD法制造预制棒的工艺; 2. 拉丝工艺 预制棒拉制成光纤的示意图如图2.3所示， 当预制棒由送料机构以一定的速度均匀地送往环状加热炉中加热， 且预制棒尖端加热到一定的温度时， 棒体尖端的粘度变低， 靠自身重量逐渐下垂变细而成纤维， 由牵引棍绕到卷筒上。 光纤外径和圆的同心度由激光测径仪和同心度测试仪监测， 其监测结果控制送棒机构和牵引辊相互配合， 以保证光纤的同心度和外径的均匀性。 目前， 光纤的外径波动可控制在±0.5 μm以内， 拉丝速度一般为600 m/min。 ;图 2.3 光纤制造的拉丝工艺; 2.1.4 光缆的技术要求 为了构成实用的传输线路， 同时便于工程上安装和敷设， 常常将若干根光纤组合成光缆。虽然在拉丝过程中经过涂覆的光纤已具有一定的抗拉强度， 但仍经