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α-C:H膜系与氮化物膜系的结构性能比较及机理分析
学兔兔
第49卷第 16期 机 械 工 程 学 报 V_o1.49 NO.16
2013年 8 月 JOURNAI,OFMECHANICALENGINEERING Aug. 2O 13
Dol:10.3901,JME.2013.16.091
. C:H膜系与氮化物膜系的结构性能比较
及机理分析木
于斌斌 袁军堂 汪振华 胡小秋 王 飞2
(1.南京理工大学机械工程学院 南京 210094;
2.苏州大学物理科学与技术学院 苏州 215005)
摘要:采用非平衡磁控溅射与阳极离子束技术制备 Cr/a.c:H膜系,同时采用多弧离子镀技术分别制备 CdCrNx与 Ti/TiNx
膜系,膜层厚度均为2txm。利用扫描电子显微镜、原子力显微镜、Raman光谱、x射线衍射仪分析三种薄膜的微观结构和
表面形貌;采用WS.2005型附着力划痕仪测试三种膜系与SKD11不锈钢基体的结合强度;采用 自主研制的球磨仪测试制备
在SKDll不锈钢与YG6硬质合金基体上的三种膜层耐磨性能。结果表明,利用阳极离子束技术制备的0L.C:H膜是一种非
晶结构、表面平滑的薄膜,粗糙度值仅为5.21nlTl,划痕试验临界载荷为 17.8N。而晶态的TiNx与CrNx膜层粗糙度较高,
且其表面存有 “熔滴”,但其结合强度较高,划痕试验临界载荷达 80N 以上。c.【C:H膜层的耐磨性能优于TiN,CrNx,且
沉积在YG6硬质合金基体上的膜层单位磨损率均比SKD11不锈钢基体上的膜层低。
关键词:离子束技术 a.c:H膜 多弧离子镀 TiN膜 CrN膜
中图分类号:TG174
ComparisononPropertiesandM echanism ofI口-【C:H FilmsSystem
andNitrideFilmsSystem
YU Binbin YUAN Juntang WANG Zhenhua HU Xiaoqiu WANGFei
(1.SchoolofMechanicalEngineering,NanjingUniversityofScienceandTechnology,Nanjing210094;
2.SchoolofPhysicalScienceandTechnology,SoochowUniversity,Suzhou215005)
Abstract:Cr/a-C:H filmssystem arepreparedbyunbalancedmagnetronsputteringandanodeionbeam technique.andCr/CrNxna d
Ti/TiNxfilmssystemsraeprepraedbymulti—raCionplatingtechn ique.Thethicknessesoffilmsrae2um.Themicrostructuresnadthe
morphologiesoftheresultingofthreefilmssystemsraeinvestigatedbyscanningelectronmicroscopy,atomicforcemicroscopy,
Ramna spectroscopynadX—raydiffractometer,respectively.Themechanicalandthetribologicalpropertiesofthefilmsraestudiedby
W S-2005scratchtester,na dballcrateringtester.Theresultsshow thatc一【C:H filmsprepraedbynaodeionbeam techniquearefilms
withnon-crystalstructurenadsmoothsurface,theroughnessvalueisonly5.21nln,highes
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