基于连续弯液面构筑的有序阵列模板复制模塑制备图案化聚合物.pdfVIP

Vol.37 高等 学校 化 学 学报 No.2 2016年2月 CHEMICALJOURNAL OF CHINESE UNIVERSITIES 388~395 doi:10.7503/ cjc 基于连续弯液面构筑的有序阵列模板 复制模塑制备图案化聚合物薄膜 1 1 2 1 2 1 2 贾若琨 ,杨晓航 ,龙智云 ,何蕾茵 ,王盼新 ,张凌云 ,赵 明 (1. 东北电力大学化学工程学院,吉林 132012; 2. 哈尔滨工业大学市政环境工程学院,哈尔滨 150090) 摘要 基于咖啡环理论,利用微米尺度限制下的弯液面溶剂散逸过程获得表面微结构可控的有序阵列,以 此为母模板制备聚二甲基硅氧烷(PDMS)弹性印章,通过复制模塑过程实现阵列结构转移. 利用广义Young- Laplace方程建立的理论模型分析弯液面聚合物沉积黏连过程,推导出条纹沉积频率与聚合物分子量、基底 滑动速率和溶液浓度的关系,理论计算结果与实验现象一致. 关键词 弯液面;有序阵列;母模板;复制模塑技术;图案化聚合物薄膜 中图分类号 O631 文献标志码 A 具有特殊功能的微观图案化聚合物薄膜受到越来越多的关注,并在微反应器、生物传感器、微电 子器件、光学器件及生物界面等领域广泛应用[1~6]. 聚合物薄膜微观图案化技术主要包括光刻技术、 自组装技术、软刻蚀技术和纳米压印技术等[7~10]. 传统光刻技术是目前为止应用最可靠和最基本的技 术,在半导体及集成电路制造领域具有重要应用. 但光刻技术普遍存在设备昂贵、生产效率低、不能 [11] 大面积获得等缺点 . 自组装图案化技术是利用小分子、聚合物或构筑单元的自组装过程获得稳定有 [12] 序的高级结构,然而自组装技术形成的图案结构难以控制,易产生缺陷 . 纳米压印技术能加工到纳 米级精度并保证图案的分辨率,但需巨大的机械压力,且压印后材料降温收缩,微结构会发生不可控 [13] 改变 . 软刻蚀技术最主要的特征是利用弹性印章来实现图形的转移复制,加工分辨率可达30 nm~ 100 μm,弹性印章可多次使用,稳定性良好, 目前已广泛应用于化学和生物学等领域[14,15]. 软刻蚀技术主要包括复制模塑法、转移微模塑法、毛细管微模塑法、微接触印刷法和溶剂辅助微 模塑法等,其中复制模塑法因其在图案制备过程中重现性好和分辨率高的优势而备受关注[16~20]. 复 制模塑过程中,利用弹性印章实现微结构复制转移是关键步骤. 弹性印章的母模板主要有硬质模板和 自组装模板两大类,硬质模板获取工艺复杂,成本较高,微小的偏差即会造成不可逆破坏; 自组装模 板简单易得,但结构不稳定,会使应用器件的性能损耗严重[21~23]. 因此开发简单且形貌可控的母模板 制备方法,提高弹性印章转印效率,是复制模塑技术实现广泛应用的关键. 本文首先利用可控狭缝装置获得微米尺度限制下的聚合物溶液弯液面,随着弯液面区域溶剂快速 蒸发,聚合物发生周期性沉积形成表面微结构规则的薄膜. 实验数据及广义Young-Laplace方程计算均 证明薄膜表面规则结构由聚合物分子量、移动的液固界面速率及聚合物浓度共同控制. 以该聚合物薄 膜为母模板制备聚二甲基硅氧烷(PDMS)弹性印章,经复制模塑过程实现聚丁二烯薄膜表面的图案 构筑. 1 实验部分 1.1 试剂与仪器 制备弹性印章的聚二甲基硅氧烷(PDMS)为美国Dow Corning公司生产的双组分Sylgard184(包括 收稿日期:2015-07-14. 网络出版日期:2015-10-19. 基金项目:国家自然科学基金(批准号和吉林省科技发展计划项目(批准号:20140101090J