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基于GIXRR反射率曲线的二氧化硅纳米薄膜厚度
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第 卷 第 期 光 谱 学 与 光 谱 分 析
36 10 Vol.36 No.10 3265-3268
pp
年 月 ,
2 0 1 6 1 0 S ectrosco and S ectral Anal sis October 2016
p py p y
基于GIXRR反射率曲线的二氧化硅纳米薄膜厚度计算
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1 2 2 2 ∗ 1 1 2 1 2 2
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马一博 王梅玲 王 海 袁 珮 范 燕 邢化朝 高思田
( ) ,
1.中国石油大学 北京 化工学院 北京 102249
,
2.中国计量科学研究院 北京 100029
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摘 要 为了快速 准确得到纳米薄膜厚度 采用 厚度干涉条纹计算薄膜厚度的线性拟合公式 计
Kiessig
( ) 。 ( ) ,
算了不同系列厚度 10~120 nm 的二氧化硅薄膜 薄膜样品采用热原子层沉积法 T-ALD 制备 薄膜厚度
( ) ,
使用掠入射 射线反射 技术表征 基于 得到的反射率曲线系统讨论了线性拟合公式计算
X GIXRR GIXRR
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薄膜厚度的步骤及影响因素 同时使用 XRR专业处理软件 GlobalFit2.0 比较了两种方法得到的膜厚 最后
。 : ,
提出一种计算薄膜厚度的新方法 经验曲线法 结果表明 峰位级数对线性拟合厚度产生主要影响 峰位级
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