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本次实行目的
* * 98/6/4 Microcontact Transfer Printing of Zeolite Monolayers 指導教授:王聖璋 副教授報告人: 林冠成 By Fabio Cucinotta, Zoran Popovic′, Emily A. Weiss, George M. Whitesides,and Luisa De Cola* 沸石(Zeolite) 簡介 沸石通常由鋁矽酸鹽礦組成,由於他們的離子交換能力, 以及在UV-vis/NIR region的透明度,因此,應用領域廣泛,可作為水軟化劑、催化劑、感光元件等。 沸石中以L-型沸石最常被應用在感光元件上,它具有單向通道優點,可以應用於超分子組織或各種類型的分子,且其大小(30nm~幾個微米)與寬高比也可有效的控制。 目前已經成功地應用這項技術,以充滿熒光染料的L-型沸石創造特定圖案。並且,不僅能適用圓柱形物體與保持它們的方向,而且還使用了各向異性系統,以控制不同顏色的排放由填補兩種不同的染料的沸石與偏振光。 微接觸印刷技術(MCP) MCP微接觸印刷技術,就是將有機高分子溶液作“油墨”,塗於矽橡膠印版的圖像部分,通過微接觸印刷的方法,將印版凸起處的有機高分子轉移至被印基板表面。 實驗製備 L-型沸石材料: 圓盤狀(直徑1500nm和高度200nm) 圓柱( 直徑500nm和長度1000nm) 沸石離子交換反應: 將吡和硫堇加入在水沸石懸浮液,將沸石水攪拌和並加熱2-24小時;即完成 離子交換反應。 PDMS製備: 將矽橡膠和固化劑的以重量比10:1混合後 。置於真空室,以 刪除泡沫。將混合物倒入培養皿形成了5um厚度,並在溫度60 ℃下、放置3小時。 微接觸印刷示意圖 一般的ITO轉印平均只有45 %被覆蓋。然而聚合物層可將覆蓋率提高至65% ,原因為不完善的沸石基底。 ITO被選定為轉印基材,因為其擁有高透明度和導電性,若用其他導電基板,必須對分子篩有一定的化學親和力或需在轉印前旋轉塗佈聚合物層作為黏底。 聚苯胺旋轉塗佈轉速: 4000rpm、10s、厚度為40nm PEDOT :PSS旋轉塗佈轉速: 1200rpm和10s、厚度為50nm。 微接觸印刷時間:1min 在PDMS上建立一條紋形狀圖案,並於ITO上塗佈PEDOT- PSS 增加晶體與ITO間附著力。 深槽深度:20-60um 如圖3所示,填充染料的沸石無影響轉讓進程,而且能夠確定覆蓋率和並使用熒光顯微鏡取得定量估算轉讓效率。 *
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