活性炭对氢气中O2与N2的吸附性能研究.pdfVIP

第 44卷第3期 当 代 化 工 VO]．44．N0．3 2015年 3月 ContemporaryChemicalIndustry March．2O15 活性炭对氢气中O2与N2的吸附性能研究 刘 冕，黄 丽，胡石林，张平柱 (中国原子能科学研究院，北京 102413) 摘 要：研究测定了温度为77K，压力0．1MPa，流量分别为 5、8、10Lm·in 时活性炭对 O、N的饱和 吸附量，考察了 O与 N双组分杂质在氢气中共存对活性炭吸附行为的影响，并采用 Fick扩散模型分别对 O 和N在活性炭内的扩散行为进行了分析，求出了实验条件下O与N在活性炭内的扩散系数，确定了二者在活 性炭内的扩散均属于晶体扩散。 关 键 词：氧气；氮气 ；吸附；扩散模型 中图分类号：TQ028 文献标识码： A 文章编号： 1671—0460(2015)03—0470—03 StudyonAdsorptionPropertiesofActivated Carbonfor02andN2Impuritiesinhydrogen LIU Mian，HUANGLi，HUShi—lin，ZHANG Ping-zhu (ChinaInstituteofAtomicEnergy，Beijing102413，China) Abstract：The adsorption capacity ofO，and N，impuritiesin hydrogen on activated carbonswere studied at temperautreof77K，pressureof0．1MPaandflow of5，8orl0Lra·in～．TheefflectofamountofO2andN2inthefeed gasonadsorptioncapacitywasinvestigated．TheFickdiffusionmodelwasusedtodescribethediflusionbehaviorsof O，andN，inactivatedcarbons．anddiflusioncoefficientsofO，andN，undertheexperimentalconditionsinactivated carbonwereobtained．andtheybothbelongtointra．crystallinediffusion． Keywords：Oxygen；Nitrogen；Adsoprtion；Diffusionmodel 在电子行业一些材料的生产技术 中，均要采用 司提供，实验所用气体 由北京氦普气体_T业有限公 高纯氢气作为反应气、还原气或保护气，半导体集 司生产 。 成电路生产对气体纯度要求极高，在制造非晶体硅 1．2 实验仪器 太阳能电池时，也需要用到纯度很高的氢气。在航 气相色谱仪，型号 GOW—MAC590—1，检测下 空航天领域，氢气做为液体燃料，对氢气纯度和洁 限20X10一，由美国高麦克仪器有限公司生产。真空 净度都有一定要求 ¨。而高纯氢气的重要来源之 泵，型号 ISP一250C，由阿耐思特岩田产业机械(上 一 就是 电解制氢 ，从 电解氢可 以制取纯度 为 海)有限公司生产，最小真空度为 1．6Pa。分析天平， 99．999％99．9999％的高纯氢和超纯氢，电解氢气中 型号 ML4200／02，由梅特勒一托利多仪器 (上海 )有 的主要杂质是氧气、氮气和水 。一般用分子筛干 限公司生产，精确度为 0．01g。质量流量控制器 燥的方法除水，氮气等低沸点杂质则采用低温吸附 (