铁磁体的技术磁化理论.pptVIP

* * 第四节 铁磁体的技术磁化理论 技术磁化：阐述铁磁质在整个磁化过程中磁化行为的机理，即阐明了在外磁场作用下，磁畴是通过何种机制逐渐趋向外磁场方向的。(磁化过程+反磁化过程) 一、 技术磁化 磁化过程：铁磁体在外场作用下，从磁中性状态到饱和状态的过程。 (磁化曲线) 磁中性状态：铁磁体处于磁感应强度B和磁场H都为零的状态。 H M 起始磁化阶段 急剧磁化阶段 趋于饱和阶段 起始磁化阶段：形成起始磁化曲线，源于磁畴壁的位移（壁移过程），磁化过程可逆。 急剧磁化阶段：包括不可逆壁移过程和磁畴内磁矩的转动过程（畴转过程），出现剩磁，磁化过程不可逆。 磁化过程的三个阶段 趋于饱和阶段：壁移过程和畴转过程消失，出现顺磁过程，Ms变化不大。 课堂练习： 画出铁磁体在磁化过程中，磁畴变化的示意图。 m (b) 外加磁场H m (c) 外加磁场H m (a) 磁中性状态 反磁化过程：铁磁体在外场作用下磁化饱和后，逐渐降低磁场并沿反方向逐渐增加磁场时，其磁化状态的变化过程。Bs——-Bs过程! (磁滞回线) 反磁化曲线AA’ 反磁化曲线A’A 反磁化机制： (1) 钉扎理论 (2) 形核理论 二、 剩余磁化强度 H M A B C O D C’ 1、磁中性状态（O） 多晶体内的自发磁化方向在空间上均匀分布，在任一方向有：M＝0，H＝0，B＝0。 2、饱和磁化状态（A） 多晶体内的自