Cell工艺介绍.pptVIP

BJ (bubble jet)：也叫CJ（cavitation jet）是利用加了高压的DI water与空气混合后所产生的大量bubble来去除particle的一种清洗设备。该设备可以用来去除3～5 μm的顽固particle。在整个CELL清洗工艺中应用较多，由于高压，具有一定的危险性。生产过程中的主要工艺控制参数有：BJ的压力，玻璃基板的传送速度。主要的耗材有：虑塞、nozzle。 Edge Grinding The End 第五节 Cutting 切条 切块 BI Grind Clean LD Cutting时，TFT基板向上， CF基板向下。现将整张大 Panel切成四条 将各条Panel旋转90°， 分别切成三个Panel Bur Inspection,检查切割 边缘的毛刺是否超出标准 将基板反转，使得TFT基板向下， CF基板向上。磨边同时，喷洒 DIW，以免损坏Panel Cutting Scribing 受取 旋转 搬送到Stage 对位 研磨 Conveyor送出 旋转 倒前角 磨两边 倒后角 旋转并退回 磨余下两边 去水 Grind Cleaning 下工序 上工序 Grind Grind Y BACK 第六节 Cell Test工作流程 外观检查 点灯检查 Laser Repair Retest Sort Polarizer Separator Film 剥离Tape ROLLER CELL POL 第七节 Polarizer的贴附工艺 偏阵片 聚乙烯醇/碘素系（高分子薄膜型） 其它 二向色性有机染料系 碘素系偏阵片的光学特性（透过率和偏光度）较优，染料系偏阵片的耐久性等较好。一般单片偏阵片的透过率约在38～48％之间变化。 偏光片的分类 Protective Film (保护膜) PVA Film(偏光层) TAC Film(支持层) TAC Film(支持层) PSA(粘着层) Release Film(异型胶膜) WV DLC(光补偿层) LR/AR Layer (低反射层) AG Layer (防眩层) ? TAC : Triacetyl Cellulose（三乙酰基纤维素） ? PVA : Polyvinyl Alcohol （聚乙烯醇） ? PSA : Pressure Sensitive Adhesive（压力敏感粘合剂） ? DLC : Discotic Liquid Crystal (Fuji) （无毒液晶） ? AG/LR/AR : Anti-Glare/Low Reflection/Anti-Reflection （反目眩/低反射/不反射） ?????? TAC(???) PVA(???) 粘合剂 TAC TAC PVA 保护膜 Total Thickness 100 ~ 200 mm 偏光片的基本结构 外观检查 设备：Na灯、He灯、日光灯 主要检查的项目：异物、气泡、粘贴剂脱落、scratch、 curl、wave Polarizer的外观和光学特性的检测 特性检查 项目： －色度：色度A、色度B －光学特性：单体透过率、平行透过率、直交透过率、 偏光度 －吸收轴角度 * BOE Copyright ? 2010 Company Confidential 质量组织 Cell工艺技术 8.5G 质量组 北京京东方显示技术有限公司 2010-05-24 第一节 Cell 工艺流程图 第二节 PI Coating 第三节 Rubbing 第四节 ODF 工艺 第五节 Cutting 工艺 第六节 Cell Test 目录 第七节 Polarizer的贴附工艺 一、Cell 工艺流程图 CUTTING CELL TEST PI COATING VACUUM ALIGNER Module TFT C/F CLEANING Rubbing + + Seal/Tr ODF 在一个封闭的chamber内用UV lamp照射，生成O3以去除玻璃基板上的有机物的一种清洗方式。 Organic matter UV 利用高速旋转的滚刷配合特定的化学清洗剂，对玻璃基板表面3μm以上大小的灰尘进行去除的一种清洗方法. 3 μm Roller Brush 该单元通过通入高压氮气同时抽真空,另外内部配合AC型除静电Bar振动基板表面产生超声波,从而剥离基板表面的杂质,并通过真空除去已经脱离基板表面的杂质. 主要用于除去纤维，particle USC Dry Cleaning 利用远红外线