磁控溅射法制备W1-xAlxN薄膜的微结构与性能.pdfVIP

学兔兔 第20卷第2期 粉末冶金材料科学与工程 2015年4月 Vb1．2ONo．2 MaterialsScienceandEngineeringofPowderMetallurgy Apr．2015 磁控溅射法制备W1-xAlxN薄膜的微结构与性能 赵洪舰，喻利花 (江苏科技大学 材料科学与工程学院，镇江 212003) 摘 要：采用磁控溅射仪制备一系列不同A1含量的w1A 薄膜，系统研究该复合膜的微结构、力学性能、高 温抗氧化性能及摩擦磨损性能。结果表明，W1-xAlxN薄膜为面心立方结构，呈(2o0)择优生长。当Al含量(原子分 数，下同)为32．4％时，复合膜中形成h．A1N相，且随Al含量增加，h．A1N含量增多。随A1含量增加，薄膜硬度 先升高后降低，Al含量为32．4％ 时薄膜硬度最大，约为37GPa。随Al含量增加，复合膜在室温下的摩擦因数和 磨损率均先减小后增大，Al含量为32．4％ 时达到最小值，分别为0-3和0．9×10-mm ／(Nm·m)。复合膜摩擦因数 随温度升高先增大后减小，而磨损率随温度升高逐渐增大，800~C下 w067 1o_324N薄膜的摩擦因数和磨损率分别 为O．32和8．2×10 rlL1Tl／ m·m)。与W2N薄膜相比，W】-xAlxN薄膜的高温抗氧化性能和摩擦磨损性能显著提高。 关键词：磁控溅射；WAIN复合膜；微结构；抗氧化；摩擦性能 中图分类号：TG174．44 文献标识码：A 文章编号：1673．0224(2015)2．288．08 M icrostructureandpropertiesofW 1．xAlN compositefilm fabricatedbymagnetronsputtering ZHAOHong-jian．YULi—hua (SchoolofMaterialScienceandEngineering，JinagsuUniversityofScienceandTechnology,Zhenjinag212003，China) Abstract：A seriesofW 1A1 filmswerepreparedusingreactivemagnetronsputtering．Themicrostructure，mechanical properties，frictionpropertiesnadoxidation—resistnacewereinvestigatedbyeneryg dispersivespectroscopy(EDS)，X-ray diffraction(xmg)，nnao-indentation，high—temperatureball—on—disctribo—meter,Bruker3Dprofilernadannealingoven． TheresultsindicatethattheWI-xAlxNfilmshaveafcccrystalstrucu