粉末冶金法制高纯溅射铬靶材的方法.pdfVIP

总第 150期 山西 冶金 Total150 2014年第4期 SHANXIMETALLURGY No．4，2014 粉末冶金法制高纯溅射铬靶材的方法 张新房 (深圳正和忠信股份有限公司， 深圳 511400) 摘 要：通过试验重点对粉末冶金法制备高纯溅射铬靶材的传统烧结工艺进行 了分析和优化研究。试验结果 表明，采用 “模压 +烧结”或者 “冷等静压 +烧结”的方式加工靶材，并合理控制烧结温度，能够有效保证靶材的 密度。 关键词：粉末冶金法 高纯溅射铬靶材 方法 中图分类号：TF123 文献标识码：A 文章编号：1672—1152(2014)04—0013-02 高纯溅射铬靶材是近年来新研制和开发的一种 46mm。将压制成型的压块放入真空碳管炉中，在真 靶材，先后在集成电路、液晶显示屏、真空镀膜及电子 空条件下对其进行低温烧结 ；如果进行高温烧结，则 控制器件等多个领域得到了广泛的应用，市场规模不 需要在惰性气体环境中进行 ，一般选择氩气，烧结温 断扩大。铬靶材可以采用多种方法制备，而针对市场 度为 1300℃和 1450℃两种，烧结时间均为7h。 的大量需求，在进行铬靶批量生产时，通常要求其纯 在烧结完成后，对比靶坯的尺寸、密度变化情况。 度能够达到85％左右，因此，需要在选择合理制备工 1．2．2 热压试验 艺的同时，有效控制高纯溅射铬靶材的生产成本。 热压法具有工艺简单、致密度高的特点。在采用 1 试验原材料及试验方法 热压试验进行靶材制备时，首先将混合后的铬合金 1．1试验原材料的选择 粉末放置到热压模具中，然后在惰性气体(氩气)环 在试验过程中，我们选择电解铬粉作为试验原 境下将其加热到 1300℃左右，之后进行 1h左右 材料 ，其主要化学成分为 cr，其杂质元素含量为 ： 的保温，最后冷却至600℃出炉。靶坯的标准尺寸为 w(A1)=0．001％，w(Fe)=0．02％，w(Pb)=O．001％， (Si)= 60mm×qb30mm。完成之后对靶坯的尺寸变化情 0．0015％，w(Cu)=O．002％，(C)=O．004％，W(S)=O．001％， 况进行分析，并计算出靶坯的密度。热压法一般为 (O)=O．3％。 单向加压，因此，采用该方法制备的铬靶材通常整体 1．2 试验方法及试验设备 致密度不均匀，可见该方法只能适用于小尺寸靶材 常用的粉末冶金工艺包括传统烧结、热压、真空 的制备。为了保证靶材的纯度，通常在制备过程中不 热压和热等静压等多种方法[。本试验选择传统烧 需要添加其他成型剂，而直接利用高纯度的金属粉 结法和热压法。 末进行制备。 1．2．1 成型及烧结试验 2 试验结果分析 传统的烧结方法能够用于大尺寸靶材的制备 ， 2．1 靶坯压制过程 但是致密度通常不高，在采用该方法制备靶材时，为 在进行靶坯轧制的过程中，由于各种摩擦 因素 了提高靶材的密度，通常需要增加烧结时间，或者在 的影响，压力损失 ，导致靶坯各部分受压不均匀，从 烧结之后进行轧制处理。这里首先将 电解铬粉与成 而影响到靶材成型后的密度分布[。通过采用双向 型剂按一定比例放置于轧制模具中，然后利用300t 压制的方法，能够有效避免因压力损失导致的靶材 的液压机将铬粉轧制成型或者包套