LY12铝合金表面电化学沉积制备DTMS硅烷膜及其耐蚀性研究.pdfVIP

VOl. 27 高 等 学 校 化 学 学报 NO. 6 2 0 0 6 年6 月 CHEMICAL JOURNAL OF CHINESE UNIVERSITIES 1121 ~ 1125 LY12 铝合金表面电化学沉积制备 DTMS 硅烷膜及其耐蚀性研究 1 1 1，2 1，2 胡吉明 ，刘 倞 ，张鉴清 ，曹楚南 （1. 浙江大学化学系，杭州310027 ；2 . 中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室，沈阳110016 ） 摘要 采用电化学技术在Ly12 铝合金表面沉积制备了十二烷基三甲氧基硅烷（DTMS ）膜. 反射吸收红外光 谱表明，DTMS 硅烷试剂与铝合金基体表面发生了化学键合作用，生成—SiOAl 键实现成膜. 通过对膜覆盖 电极在质量分数为3. 5% 的NaCl 溶液中的电化学阻抗谱（EIS ）测试结果表明，与开路电位下相比，采用阴极 电位沉积方法得到硅烷膜的耐蚀性能有明显提高，且存在一个最佳“临界电位”，在此电位下沉积得到的硅 烷膜具有最高的耐蚀性. 扫描电镜观察结果表明，在“临界电位”下制备得到的硅烷膜的结构最致密. 给出 了硅烷膜覆盖电极的阻抗模型及相关参数的拟合结果. 关键词 硅烷化处理；电化学沉积；DTMS ；Ly12 铝合金；防腐蚀 中图分类号 O646 ；TG174. 36 文献标识码 A 文章编号 0251-0790 （2006 ）06-1121-05 开发新的环保型金属表面预处理技术已成为当今国内外腐蚀工作者的研究热点之一. 硅烷化处理 工艺是新近出现的一种环保型金属防护预处理技术. 除了与有机涂层具有良好的结合力外，硅烷膜也 ［1 ~ 5 ］ 可单独作为预防护层. 这方面的研究已有大量文献报道 . 他们主要采用传统的浸涂工艺沉积得到 硅烷膜. 我们曾研究了浸涂法制备1，2-二（三乙氧基硅基）乙烷（BTSE ）膜的耐蚀性能并对制备工艺参 数进行了优化［6 ］ ［7 ］ . 1993 年，WOO 等 利用该技术首先沉积制备了硅烷膜，其目的是为了提高基体与粘 ［8 ］ 接剂的结合力. Mandler 等 在金和ITO 玻璃上实现了甲基三甲氧基硅烷（MTMS ）的电沉积制备，并将 该种成膜技术首次应用于金属的表面防护中［9 ］ . 但他们选用的硅烷种类（如四乙氧基硅烷TEOS 及苯 基三甲氧基硅烷PTMS ）不是常用的金属表面防护性硅烷试剂，故在实际应用中受到了限制. Van OOij ［10 ］ 等 采用该技术制得常用的防护性BTSE 硅烷膜，结果表明，电沉积制备硅烷膜的耐蚀性得到了提 高，但在其工作中仅尝试了单一的沉积电位，而且未提出更详细的工艺信息. 本文采用电沉积技术在Ly12 铝合金表面制备了防护用的十二烷基三甲氧基硅烷（DTMS ）膜，探 讨沉积电位对膜结构与耐蚀性的影响. Ly12 铝合金广泛应用于航天航空领域，其由于合金化导致耐蚀 性能显著下降，目前对其腐蚀与防护的研究已成为热点之一. 而由于其分子结构中含有较长的十二烷 基憎水基团，DTMS 膜对金属可能起到较好的防护作用. 1 实验部分 1. 1 硅烷膜的制备 先将铝合金基体抛光至镜面，经除油、水洗后吹干，置于干燥器内