玻璃减薄蚀刻工序产生的含氟废水处理工艺研究.pdf

玻璃减薄蚀刻工序产生的含氟废水处理工艺研究 招霖济 肖俊贤 李景超(东莞市和利精细化工有限公司，广东 东莞 523000) 摘要 ：根据东莞某公司在电子玻璃面板减薄蚀刻工序产生的含氟废水，在分析其成分及含量的基础上，探讨该类含氟废水的处理 原理及工艺流程，相应实验表 明：该类废水首先用钠盐NaC1为沉淀剂，沉淀出部分的氟离子，然后将沉淀生成物Na2SiF6通过离 心和过滤去除，然后滤液用熟石灰调节pH值，加入氯化钙沉淀滤液中的氟离子，最后加入混凝剂PAC处理，废水的氟离子浓度经处 理后下降到10mg／L以下，达到国家污水综合排放的一级标准。 关键词 ：含氟废水；原理；_Z-艺；氯化钠；混凝剂 ；氟离子 1研究背景 与其他硅基材和多晶硅反应。 随着小米、I—PH0NE等智能手机的普及，产品 日趋轻薄 反应方程式如下 ：SiO2+6HF—H2SiF6+2H2O 化，智能手机等便携式设备中广泛应用玻璃显示屏，显示屏的 鉴于氢氟酸会对二氧化硅刻蚀速率难以进行控制，一般使 厚度越来越低，甚至降低至了0．3mm 以下。玻璃基板中的蚀刻 用稀释后的氢氟酸溶液，或者可以在其中添加缓冲剂形成混合 减薄工艺成了重要的环节，减薄效果直接影响产品的质量，目 液，缓冲剂成分为氟化氢氨，可以补充消耗的氟化物离子确保 前通常使用以氢氟酸为主要成分的蚀刻液进行玻璃蚀刻减薄 刻蚀速率能够更加稳定。 处理，随着反应的不断深化，会使腐蚀溶液中的HF浓度降低， 3脱除氟离子的反应原理 但H：SiF含量增加，浓度达到l0％～l5％时，此时蚀刻液粘度 3．1氟离子的去除机理 会有所增加 ，导致薄蚀刻效果变差，无法继续蚀刻最终变为了 危废液体，需要进行无害化处理。 氟离子机理包含的内容有两部分，分别是生成难溶的氟化 查阅 (污《水综合排放标准))(GB8978-1996)，规定了废水 物质，处理工艺一经开始就会将氟离子浓度降低 ；使用同离子 中氟离子浓度排放限值 ：一级标准10mg／L。因此，需要对含氟 效应，并添加强化电解质，使氟离子浓度进一步降低，确保废水 废水进行处理，达标后才能排放。 排放更加稳定。 当前 ，处理的含氟废水方法与工艺非常多，化学沉淀法、 (1)固化沉淀脱除氟离子 吸附法、离子交换法、混凝沉淀法是非常常见的，但是各有优缺 该类废液如果直接采用石灰 中和处置，废液 中的F一、 点。本论文以上述特定的含氟废水为研究 目标，在对相关废液 SiF62离子以及pH值等可以达到排放标准，但会产生大量的 的成分及含量进行分析基础上，对减薄蚀刻原理及氟离子脱除 CaSO、CaF 的混合固体 ，属于危险废物，后续处置的成本极 原理的进行研究，并经实验证实，初步组合了一套有效的无害 高。基于此点，本工艺分成两步沉淀，分别选择使用不同沉淀 化处理工艺，保证了处理后的氟离子浓度达到国家规定的一级 剂，详细处理机理如下。 排放标准要求(10mg／L)。 第 一 步 沉 淀 ：使 用NaC1或KC1使 废 液 中H2SiF6以 Na2SiF或K2SiF形成 沉淀，Na2SiF6和K2SiF6在酸液 中不 2玻璃减薄蚀刻的反应原理与过程 溶解，分离后酸液可 以循环再利用，还可以对 固体Na：SiF、 当前 ，酸蚀刻处理方法较为常用的是玻璃减薄蚀刻法 ，应 KSiF进一步处理，生成其他含氟的产品，这样在处理中就基 用的原理为 ：准备HF混酸溶液，与玻璃中二氧化硅和其他金 本实现了 “零排放”，该工艺具有较好的前景。 属氧化物反应，会在玻璃表面进行剥离，这样就实现了对玻璃 第二步沉淀 ：将剩下的游离氟离子形成溶解度低的氟