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电子背散射衍射试样的制备技术
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Q e o 0
~ 测试与分析 ~
电子背散射衍射试样的制备技术
王 疆 ,岳俊伟 ,郦 剑 ,王幼文
(1.辽宁科技大学高等职业技术学院,辽宁 鞍山 114044;2.中冶北方工程技术有限公司,辽宁 鞍山 114000;
3.浙江大学金属材料研究所,浙江 杭州 310027)
摘 要:电子背散射衍射试样的制备质量对其成像效果有重要的影响。电子背散射衍射试样的制备方法 已
由传统的机械抛光、机械一化学抛光和电解抛光发展到离子减薄、聚焦离子束和最新的截面抛光等。
介绍了工业纯铁和 PbTiO 微米粉末电子背散射衍射试样的制备方法。
关键词:电子背散射衍射;试样制备;机械一化学抛光;电解抛光
中图分类号:TG115.211 文献标识码 :B 文章编号:1008—1690(2013)04.0071.04
Preparation ofSampleforElectronBackscatteredDiffraction
WANGJiang .YUEJunwei.LIJian 。WANGYouwen。
(1.VocationalTechnicalCollege,LiaoningUniversityofScienceandTechnology,Anshan114044,LiaoningChina;
2.Northern Engineering TechnologyCorporation,MCC,Anshanl14000,LiaoningChina;
3.DepartmentofMaterialsScienceandEngineering,ZhejiangUniversity,Hangzhou310027,ZhejiangChina)
Abstract:Thepreparationqualityofelectronbackscatterdiffraction(EBSD)samplewillexertasignificant
influence on the imaging effect. The methodsofpreparingEBSD sample have developed from conventional
mechanical,mechanical·chemicaland electrolyticpolishingstoionthinning,focused ion-beam and crosssection
polishing.TheexamplesofpreparingEBSD samplesofpureironandmicro-levelPbTiO3powderwereintroduced.
Keywords:EBSD;samplepreparation;chemical—mechanicalpolishing;electrolyticpolishing
电子背散射衍射技术是2O世纪90年代初 问世 备电子背散射衍射试样的新技术、新设备也相继出
的一项应用于扫描 电子显微镜 (SEM)的新技术。 现,由传统的机械一化学抛光、电解抛光发展到离子
此技术可对块状样品纳米级显微组织逐点作晶体学 减薄以及聚焦离子束 (focusedion.beam)和最近新
分析,获得晶体取向图,使扫描电镜上的显微组织、 开发的截面抛光等。本文通过对工业纯铁片和
微区成分与晶体学或织构的分析相结合,改变了传 PbTiO微米粉末的试样制备及分析测试,得到制备
统的显微组织和晶体学分析两个分支的研究方法, 电子背散射衍射试样的有效方法。
大大地拓展了SEM的应用范围。因其成像依赖于
1 工业纯铁片 EBSD试样制备
晶体的取向,故也称其为取向成像显微技术 ¨。J。
由于背散射电子只发生在试样表层 5nm的深 1.1 切割及尺寸
度范围内 』,所以试样表面的残余应变层、氧化膜 对于较厚的金属材料,最好采用线切割的方法。
以及腐蚀坑等缺陷都会影响甚至完全
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