蓝宝石衬底表面净化技术研究.pdfVIP

维普资讯 电 子机 械 工 程 2005年第21卷第6期 42 Electro—MechanicalEngineering 2005．V0l_21No．6 蓝宝石晶片表面净化技术研究 周 海 ，杭 寅 ，姚绍峰 (1．盐城工学院机械工程学院，江苏盐城 224003；2．中国科学院上海光学 精密机械研究所，上海201800；3．兴化祥盛光电子材料公司，兴化225716) 摘 要：阐述了在氮化镓生长中使用的蓝宝石晶片净化的重要性。论述了蓝宝石晶片的净化原理。通 过净化试验研究，提出了适合于工业化生产的蓝宝石晶片清洗剂和净化工艺，满足了光电子领域所需的 开盒即用的蓝宝石晶片表面质量要求。 关键词：蓝宝石晶片；净化工艺；清洗剂 中图分类号：TH161，TN205 文献标识码：B 文章编号：1008—5300(2005)06—0042—40 A StudyontheCleaningTechnologyforSapphireWafer ZHOU Hai，HANG Yin ，YAO Shao-feng (1．D印ⅡmemofMechanicalEngineering，YanchengInstituteofTechnology， Yancheng224003，China； 2．ShanghaiInstituteofopticsandFineMechanics，ChineseAcademyofSciences， Shanghai201800，China； 3．XinghuaXiangshengOpto—electronicMatericalCo．，Ltd， Xinghua225716，China) Abstract：ThesignificanceofsapphirewafercleaningingrowingofGaN isexplained．Thecleaningprinciple ofsapphirewafersisdiscussed．Thecleaningsolutionandtechnologyofthesapphirewafersuitableforindus— trialproductionarepresentedandvarifiedbycleaningexperiments．Sapphirewafercanbeusedinphotoelec— tronicswithoutre—cleaningbythismethod． Keywords：sapphirewafer；cleaningtechnoloyg ；cleaningsolution 使全部蓝宝石晶片报废 ，做不出LED管子来 ，或者制 0 引 言 造出来的LED性能低劣、稳定性和可靠性很差 。因 此弄清楚蓝宝石晶片清洗的方法和原理，不管是对从 随着光电子领域对氮化镓 (GaN)¨基发光二极管 事蓝宝石晶片加工还是 LED生产的人来说都具有十 (LED) 的发光性能要求不断提高，从而对金属有机 分重要的工程意义。 化学气相沉积法 (MOCVD) 生长 GaN的蓝宝石 (0【 以下主要针对蓝宝石晶片的净化原理、净化工艺、 一 A1O)衬底晶片的表面质量要求越来越严，这主要 净化效果等方面技术问题进行了研究，提出了能够满 是因为蓝宝石衬底晶片抛光