光纤端面镀膜.pdfVIP

薄膜光学● 光纤现已广泛地应用于远程通信、照明、图像 传输、传感器等领域。在某些情况下，在光纤端头 膜系设计和镀膜工具设备 镀上一层增透膜对于提高光在光纤中的传输是 很有必要的，同时又可减少菲涅耳后向反射。例 为了实现低反射率的膜层，在膜系设计中必 如，在许多情况下需要把半导体激光器发出的光 须考虑镀膜材料的性质。氟化镁是最常用的低折 耦合到光纤中去，但如果有相当一部分的光从光 射率薄膜材料。尽管氟化镁和光纤端头以及与其 纤端反射回到激光器中，就会导致激光器的状态 他膜层附着都很牢固，但二氧化硅这样的氧化物 不稳定。在光纤端镀上增透膜就可以解决这一问 能产生更坚固的膜层。附着力的差异是由沉积 题。 “冷”的氟化镁膜层产生的应力不同而造成的。甚 一个成功的光纤镀膜系统不仅需要一个具 至用离子辅助加工。这种应力也会对镀膜的耐久 有某些特征的镀膜室，而且还需有一个宽带、强 性产生不利影响。 电流、低电压的离子枪或一个适当的等离子系 实现光纤镀膜的另一个关键问题是在镀膜室 统，使所镀的膜致密。利用离子辅助加工可在冷 中使用的固定光纤的工具。大多数光纤在镀膜时 基底上，如连接的光纤或胶合消色差透镜上产生 必须被缠绕成卷并且封装在该工具中，因此使光 致密的膜。在大多数情况下，可以把膜镀到加热至 纤处于无应力状态是最重要的。这种要求迫使在 标准镀膜室中采用镀膜工具，以便减少离子源到 3000C的基底上。然而由于许多连接的光纤和光 纤束需要用环氧树脂来固定，所以不能将其置于 基底的距离。另一种方法是采用筒式镀膜设备。在 高于900C的环境中，在某些情况下甚至要求更低这种情况下，可以放人镀膜室里镀膜的光纤数量 的温度。 受光纤束中环氧树脂量的限制。硬化的环氧树脂 除了使镀的膜致密外，离子枪还能在镀膜前 在真空室中会逸出气体，这些气体大部分是从周 把玻璃表面清洗干净，从而提高光纤端头与薄膜 围空气中吸附的水蒸气。环氧树脂逸出的气体影 的附着力。离子枪必须能够处理氧气，因为氧化 响光纤对薄膜的附着力、薄膜的致密度和沉积薄 物薄膜是应用在光纤上的最坚固的膜。在离子枪 膜的折射率。 中氩气和氧气的最佳混合比例为1：1(也可以按 镀膜材料的性质依赖于镀膜工艺过程所有的 其他比例混合)。因为这种系统具有离子清洗能 相关参数。这些参数包括基底温度(在这种情况下 力，所以在光纤放入镀膜室之前不需要手工清洗 是冷的)、蒸发速率和镀膜室的压力(包括离子枪 光纤端头。 气流产生的压力)。实验证明，用离子辅助处理， 光机电信息7／2002 o 万方数据 0MEINFORMATl0NNo．7．2002 ◆薄膜光学 “冷”镀膜的折射率通常低于热镀膜的折射率。在 迈斯纳阀(Meissnertrap)。它能使镀膜室内的水凝 许多情况下，膜层折射率是非均匀的。但如果仔 结，从而改进薄膜质量。采用迈斯纳阀后，冷镀膜 细操作，可以在光纤上连续镀制出均匀的窄带和 室可以在40min内被抽