洁净室晶圆表面之无机性有机性气体吸附沈积行为之探讨-东海大学
潔淨室晶圓表面之無機性/有機性氣體吸附沈積行為之探討
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康育豪 、鄧宗禹 、白曛綾 、洪益凱 、柯富祥
國科會研究計畫編號 : NSC91-2215-E-317-007
摘 要
隨著半導體元件線寬不斷縮小化 ,集積度不斷提升,有機/ 無機性微污染對半導體良率的影
響越趨於顯著 。由於氣態空氣污染物的多寡並未與目前的潔淨室等級形成直接關係 ,因此即使
潔淨室的等級很高,仍然有很高的氣態污染物濃度存在於潔淨室的環境中 ,並可能沈積在晶圓
表面上造成損害,因此有效杜絕污染源 ,並能掌握氣體附著於晶圓表面上之吸附機制 ,將是未
來提升半導體良率的關鍵所在。
本研究群著手設置一模擬Class 10 無塵室之微環境實驗平台,利用微量分析技術求得曝露
於微環境中的晶圓表面污染量與環境濃度值,以找出晶圓表面污染量與曝露時間和背景濃度之
關聯性。藉由無機 /有機性氣體於晶圓表面之吸附沈積實驗,將可分別計算出無
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