第七章 气相沉积技术.ppt

分子束外延 （Molecular Beam Epitaxy，MBE）是将真空蒸镀膜加以改进和提高而形成的一种成膜技术，它是在超高真空条件下，精确控制蒸发源给出的中性分子束流，喷射到一定温度的基片表面，并在基片上外延成膜的技术。 让 优 秀 成 为 一 种 习 惯 分子束外延的特点 ①高真空生长，薄膜纯度高，并可实现组分和掺杂浓度的精确控制和迅速调整； ②薄膜生长速率低，约为1~10μm/h，相当于每秒生长一个单原子层，可以使膜层严格按照原子层逐层生长，将原子一个一个地在基体上进行沉积； ③低温制取单晶薄膜； ④易观察，易控制。因分子束外延技术采用了多种观察和分析测试仪器，可以实现薄膜生长过程的原位观察与控制，有利于薄膜的质量控制和进行科学研究； ⑤分子束外延制膜技术特别有利于生长复杂剖面结构的，但生产时间长，表面缺陷密度大，设备价格昂贵，分析仪器易受蒸汽分子的污染等。 让 优 秀 成 为 一 种 习 惯 本次课小结 薄膜的定义11 薄膜的特征11 等离子体的概念和特征11 真空蒸镀的概念11 离子镀的概念和特点11 分子束外延的概念和特点11 让 优 秀 成 为 一 种 习 惯 中国石油大学(华东) 气 相 沉 积 技 术 专业班级：材料物理081-3 开课单位：材料物理系 任课教师：韩 治 德 上次课主要内容回顾 高能束表面改性特点11 五种激光表面处理工