第8章光刻胶.PDF

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第8章光刻胶

第 章 光刻胶 8 第第 章章 光光刻刻胶胶 88 第8 章 光刻胶 第第88 章章 光光刻刻胶胶 Photoresist P. R. 光刻胶也称为光致抗蚀剂(PPhhoottoorreessiisstt,PP.. RR..)。 8.1 88..11 光刻胶的类型 8.1 88..11 光刻胶的类型 一、光刻胶的类型 凡是在能量束(光束、电子束、离子束等)的照射下,以 交联反应为主的光刻胶称为负性光刻胶,简称负胶。 负性光刻胶 凡是在能量束(光束、电子束、离子束等)的照射下,以 降解反应为主的光刻胶称为正性光刻胶,简称正胶。 正性光刻胶 8.2 88..22 光刻胶的特性 8.2 88..22 光刻胶的特性 1 11、灵敏度 灵敏度的定义 单位面积上入射的使光刻胶全部发生反应的最小光能量或 S 最小电荷量(对电子束胶),称为光刻胶的灵敏度,记为 SS , D S 也就是前面提到过的 DD 。SS 越小,则灵敏度越高。 100 110000 灵敏度太低会影响生产效率,所以通常希望光刻胶有较高 的灵敏度。但灵敏度太高会影响分辨率。 通常负胶的灵敏度高于正胶。 灵敏度曲线(对比度曲线) 归一化膜厚 1.0 11..00 0.5 00..55 入射剂量 2

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