第4章-化学气相沉积.ppt

化学气相沉积 三、化学气相沉积法适用范围 2、模具方面的应用 4.2 化学气相沉积原理 CVD的TiN涂层作为模具的表面保护层具有下列性能，从而显著地降低了所 产生的的磨损： 与基体材料的结合力好，因此在成形时能转移所产生的高摩擦-剪切力。 有足够的弹性，模具发生少的弹性变形时不会出现裂纹和剥落现象。 减少了成形材料的粘着，因此降低了“咬舍”的危险。 好的润滑性能，它能降低模具的磨损并能改善成形工件的表面质量。 高的硬度，它能降低磨粒磨损。 三、化学气相沉积法适用范围 3、耐磨涂层机械零件方面的应用 4.2 化学气相沉积原理 TiC、Si3N4涂层：耐磨性好、摩擦因数低、与基体的粘附性好，用于滑动零件（如活塞、轴承等）； SiC、Si3N4、MoSi2等硅系化合物：耐磨、耐腐蚀、耐高温氧化和耐辐射，用于特殊环境中使用的材料； Mo和W的CVD涂层：具有优异的高温耐腐蚀性，用于涡轮叶片、火筒发动机喷嘴、煤炭液化和气化设备、粉末鼓风机喷嘴等设备零件上。 三、化学气相沉积法适用范围 4、微电子技术 4.2 化学气相沉积原理 CVD取代硅的高温氧化和高温扩散等旧工艺，用于半导体膜的外延、P-N结扩散元的形成、介质隔离、扩散掩膜和金属膜的沉积； CVD可沉积多晶硅膜、钨膜、铅膜、金属硅化物、氧化硅膜以及氮化硅膜等，这些薄膜材料可以用作栅电极、多层布线的层间绝缘膜、金属布线、电