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电子光刻工艺基础知识　　PHOTO 流程? YnNei 7R ?　　答：上光阻→曝光→显影→显影后检查→CD量测→Overlay量测-Rf|p(SJ,E ?　　何为光阻？其功能为何？其分为哪两种？n#JOjHV ?　　答：Photoresist(光阻).是一种感光的物质，其作用是将Pattern从光罩(Reticle)上 ~svu0[Vx 传递到Wafer上的一种介质。其分为正光阻和负光阻。@ce4sSo ?　　何为正光阻? \t1vYIY]T ?　　答：正光阻，是光阻的一种，这种光阻的特性是将其曝光之后，感光部分的性质会改 %+$ 变，并在之后的显影过程中被曝光的部分被去除。D_8hn3 FH ?　　 u!X 2何为负光阻? 1%+0OmV ?　　答：负光阻也是光阻的一种类型，将其曝光之后，感光部分的性质被改变，但是这种 69L se 光阻的特性与正光阻的特性刚好相反，其感光部分在将来的显影过程中会被留下，而没有 LyQO_mT2 被感光的部分则被显影过程去除。2R_k$kHl ?　　 0zfrx-zN ?什幺是曝光？什幺是显影？?J ma^ S ?　　答：曝光就是通过光照射光阻，使其感光；显影就是将曝光完成后的图形处理，以将 Kp9 9y 图形清晰的显现出来的过程。O35f5Kz ?　　何谓 Photo? J 5\ 8I,a ?　　答：Photo=Photolithgraphy