磁控溅射沉积氧化铝薄膜的迟滞效应-中国表面工程.PDF

第 卷 第 期 中 国 表 面 工 程 ２６ １ Ｖｏｌ．２６ Ｎｏ．１ 　 　 　 　 　 年 月 ２０１３ ２ ＣＨＩＮＡＳＵＲＦＡＣＥＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ Ｆｅｂｒｕａｒ ２０１３ ｙ ： ／ ｄｏｉ１０．３９６９ ．ｉｓｓｎ２０１３．０１．００７ ｊ 磁控溅射沉积氧化铝薄膜的迟滞效应 １ ２ 徐化冰 ，徐香坤 （ 渤海船舶职业学院 动力工程系，辽宁 葫芦岛 ； 沈阳理工大学 应用技术学院，辽宁 抚顺 ） １． １２５０００ ２． １１３１２２ 摘 要：利用光发射谱（ ）技术，对反应磁控溅射过程的氧化铝薄膜的迟滞效应进行了研究。对等离子 ＯＥＳ 　 体中的铝（ ）谱线和氧化铝（ ）谱线随氧气流量的变化进行了实时测量，获得了其迟滞曲线。在 ３９６ｎｍ ４８４ｎｍ 迟滞曲线的不同位置分别进行了氧化铝薄膜的沉积试验。采用 射线衍射仪（ ）、能谱仪（ ）和紫外 Ｘ ＸＲＤ ＥＤＳ 可见吸收光谱仪（ ）对薄膜的晶体结构、成分和透光性进行了分析。结果表明：由于磁控靶表面的氧 ＵＶ ＶＩＳ 化铝沉积影响了铝靶材的溅射，导致 （ ）谱线的强度对氧化铝薄膜的晶体结构、原子比以及样品的 Ａｌ３９６ｎｍ 透光性有明显的影响。同时，由迟滞曲线可知在氧气流量为 ／ 的过渡区内存在着一个最优 １．５ ２．０ｍＬｍｉｎ ～ 沉积带。在这个沉积带获得的样品，其成分具有最佳的化学原子量配比，为 ０．６８９。这说明沉积出了高质量 的氧化铝薄膜。 关键词：物理气相沉积；迟滞曲线；晶体结构；透光性 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） ＴＧ１７４．４４４ Ａ １００７９２８９２０１３０１００４００５ 　　　 　　　 犎狊狋犲狉犲狋犻犮犘狉狅犮犲狊狊狅犳犃犾狌犿犻狀犻狌犿犗狓犻犱犲犉犻犾犿狊犇犲狅狊犻狋犲犱犫 犚犲犪犮狋犻狏犲犛狌狋狋犲狉犻狀 犕犲狋犺狅犱 狔 狆 狔 狆 犵 １ ２ ， ＸＵＨｕａｂｉｎ ＸＵＸｉａｎ ｋｕｎ ｇ ｇ （ ，