壳聚糖希夫碱钴配合物的合成及抗羟基自由基活性.pdfVIP

第 22卷第 l0期 化 学 研 究 与 应 用 Vo1．22，No．10 2010年 10月 ChemicalResearchandApplication 0ct．．2010 文章编号 ：1004—1656(2010)10—1295-05 壳聚糖希夫碱钴配合物 的合成及抗羟基 自由基活性 李全芳，何玉凤 ，王荣民，谢云涛，王 向原 (生态环境相关高分子材料教育部重点实验室，甘肃省高分子材料重点实验室， 西北师范大学化学化工学院，甘肃 兰州 730070) 摘要 ：以水溶性低聚壳聚糖为原料 ，经水杨醛、香草醛、2，4一二羟基苯 甲醛修饰后制得 了三种低聚壳聚糖希夫 碱钴配合物CS．Sal—Co、CS—Va1．Co和CS-Dh-Co，采用 H’一IR和 ICP对其结构和金属含量进行了分析。首次采 用 BPR一硫脲催化光度法测定了三种钴配合物的抗 ·OH活性。结果表明：CS-Sal-Co对 ·OH的清除效果最好 ，清 除率可达到95．41％；CS—Va1．Co对 ·OH的清除作用较弱，清除率最大为46．77％；CS—Dh—Co对 ·OH清除率最 大为58．50％。探讨了壳聚糖希夫碱钴配合物清除 ·OH的机理。 关键词：壳聚糖希夫碱；水溶性钴配合物；抗羟基 自由基活性 中图分类号：0636．1 文献标识码：A SynthesisofchitosanSchiff-basescobaltcomplexes anditsactivityofremoving LIQuan-fang，HEYu-feng ，WANGRong—min，XIEYun—tao，WANGXiang-yuan (KeyLaboratoryofEco—Environment—RelatedPolymerMaterialsofMinistryofEducation，KeyLaboratory ofPolymerMaterialsofGansuProvince，CollegeofChemistryandChemical Engineering， NorthwestNormalUniversity，Larlzhou730070，China) Abstract：Usingwater—solublelowmolecularweightchitosan(CS)asmaterials，afterbeingmodifiedbysalicylaldehyde，vanillin，and 2，4-dihydroxybenzaldehyde，threekindsofwater—soluble low molecularweightchitosan Schiff-basescobaltcomplexeswere synthesized．TheywerecharacterizedbyFT—IR andICP．Theactivityforremovinghydroxylradicalofthreelow molecularweight ehitosanSchiff-basescobaltcomplexeswasdeterminedbyBF’R—thioureacatalyticspectrophotometry．Theresultsshowedthatthe hydroxylradical clearanceofchitosansalicylaldehydeSchiff-basescobaltcomplex(CS-Sal—Co)washighest，whichreached 95．4l％．Thehydroxylradicalclearanceofchitosan2，4-dihydroxybenzaldehydeSchiff-basescobaltcomplex(CS—Dh—Co)reached 58．50％．Thehydroxylradicalclearanceofchitosanv