快速光亮化学镀镍工艺.pdfVIP

　　Mar. 2006 　　　 Electroplating Pollution Control 　　　　　　　 Vol. 26 No. 2 ·24 · 快 速 光 亮 化 学 镀 镍 工 艺 High Speed Bright Electroless Nickel Plating 1 1 2 1 何向辉 , 　刘彦哲 , 　顾耀前 , 　郑 　振 ( 1. 上海应用技术学院 化学工程系 ,上海 200235 ; 2. 上海金杨金属表面处理有限公司 ,上海 200137) 1 1 2 1 HE Xianghui , 　LIU Yanzhe , 　GU Yaoqian , 　ZHENG Zhen ( 1. Department of Chemical Engineering , Shanghai Institute of Technology , Shanghai 200235 ; 2. Shanghai Jinyang Metal Surface Treatment Co. ,Ltd. , Shanghai 200137 ) 摘要 : 　弱酸性化学镀镍溶液体系采用复合配位剂以及一种添加剂 ,在 80～90 °C范围内可获得光亮镍磷合金镀层 ,沉积速率 可达 20 μ mh 。研究了温度、pH 值及镀液成份对化学镀镍层沉积速率的影响 ,并讨论了镀液的稳定性及添加剂的作用。 关键词 : 　化学镀镍磷合金 ;快速 ;光亮 Abstract : 　A bright NiP alloy coating can be obtained within a temperature range of 80～90 °C with a depositing rate up to 20 μ mh from weak acidic electroless Ni plating bath system containing a composite complexing agent and a special additive. The effects of temperature , pH and bath ingredients on the rate of electroless nickel deposition are studied , and the stability of the bath and the roles of the additives are also discussued. Key words : 　electroless NiP alloy plating ; high speed ; bright ( ) 中图分类号:TQ 153 　　　　　文献标识码 :A 　　　　　文章编号 2006 学镀镍 水洗 漂白 水洗 中和 去 1 　前言 离子水洗