利用电子东激发之高解析光学显微技术.PDFVIP

利用電子東激發之高解析光學顯微技術 日本靜岡大學 Yoshimasa Kawata 教授演講記要 本中心於 I I 月 2 3 日 邀請日 本靜岡大 學 ( Shi zuoka U nive rs ity) Y o shimasa Kawata 教 授前來演講 ， 講題為 「 利用電子束激發之高 解析光學顯微技術J ( H ig h Re solution Opti cal Mi croscop y w ith Elec tron- Beam Exci tat ion) 。 青事 岡大學約位於日 本東京與大阪的中間 ，臨近工 業城市與富士山 ，人才輩出 ， Kawat a 教授便 是其中佼佼者 ，其研究領域既廣且精 ， 此次前 來分享其研究成果同時尋找合作的可能 。 Kawat a 教授首先介紹任教的靜岡大學 ， 像 ，如此便可達到非常高的光學解析度 。以 接著話鋒一轉即切入正題 ，以其近期研究的七 大主題進行簡要說明 ， 其中包含超高密度的儲 Kawata 教授目前的研究進展 ， 己能達到50 nm 的橫向空間解析度 ，這數值離光學繞射極限已 存技術 、高解析光學成像技術 、 侷域電漿于光 突破相當的一段距離 ，的確了不起 。而該發光 學顯微鏡 、深紫外光電漿于學研究 、雷射控制 自組裝過程 、 應用於寬能隙的雙光子顯微術 、 薄膜亦擔任分離真空與空氣 (或水)環境介面的 金奈米棒之合成與電子束激發之表面電漿子 角色 ，厚度亦約 5 0 nm 材料為 Si N， 其製作 於厚度約0. 2 mm的矽基材上 。 等 。 此次演說以高解析光學成像技術為主 ， Kawata 教授亦說明此研究於電腦模擬上 其技術乃利用掃描式電子顯微鏡的高解析度優 的成果 ，計算出電子束激發螢光薄膜材料時的 電偶極行為 、 不同厚度材料與加速電場的場形 勢 ， 結合光學顯微鏡的實驗目的製作而成的 新型態光學顯微鏡 。其製作出的新型顯微鏡 分布及激發光場分布與距離之間的關係等 ， 並 稱為 EXAM (E lec tro n-beam eXc itation Ass iste d 亦提出可直接利用電子束激發樣品內螢光物質 M icroscopy) ， 真有高於傳統光學顯微技術 1 0 成像且不經過該發光薄膜的辦法 ，同時展示許 TAO 倍的空間解析度 ，並維持光學顯微鏡可於空氣 多的影像成果以證實該技術的可行性與效果。 與水環境下工作的特性及高速掃描的優點。 Kawata 教授於最後總結時強調 EXAM 技 術的嶄新與實用 ， 非但能真超高解析度的光學 傳統光學顯微鏡受限於繞射極限 ， 因此 只能得到約半光波長的空間解析度 ，而掃描電 高速即時成像 ，且可應用於不同環境的量測， 這對於液晶分子、活體生物 、 晶體成長過程 子顯微術雖能得到高空間解析度 ， 卻非光學成 (象 ，並有無法於空氣與水環境下工作的限制 ， 等的觀察大有助益 。 最後同仁提出7許多專