厦门大学招标文件招标项目电子束蒸发镀膜机采购编号.docVIP

厦 门 大 学 招 标 文 件 招标项目 电子束蒸发镀膜机 采购编号：XDZFCG2009-033 厦门大学资产与后勤事务管理处 2009年 8月14日 第一章 投标邀请 受学校采购领导小组的委托，我处以公开招标方式进行以下货物的政府采购，欢迎具备相应资格条件的供应商参加投标。 采购编号： 项目名称： 供货地点：厦门大学 投标截止和开标时间：200年月日上午9：00 开标地点：厦门大学资产与后勤事务管理处物资管理科会议室 本批采购的咨询联系人 技术方面的问题请联系： 老师 0592- 招投标方面的问题请联系：电话与传真：0592-2181872、2181873、2186100、2182265 厦门大学资产与后勤事务管理处 200年月日 第二章 采购项目说明及要求 一、 采购项目 设备名称：电子束蒸发镀膜仪 数量：一套 设备用途说明 电子束蒸发镀膜仪是微纳加工中的重要设备，特别是生长高质量的金属薄膜。通过阴极发射高能电子束将靶材上的原子轰击出来，被轰击出来的靶材原子通过一段真空后到达基底表面并均匀附着在待镀膜样品的表面。 本次购买的电子束蒸发镀膜仪主要用于纳米和微米器件加工，用于高质量、厚度被控制精确的金属和氧化物薄膜的生长，主要生长的金属薄膜包括：钯、钛、铝、金、铂等金属单质,生长的金属薄膜厚度小于20纳米。 规格、技术要求及参数（包括提供技术文件或图纸、设备工作条件及环境要求） 主机主要由以下几部分构成：镀膜主真空腔、真空系统、真空阀系统、水冷系统、电子束沉积系统、预真空室、膜厚检测系统、控制系统。 (1) 镀膜主真空腔 不锈钢腔体，腔体门采用胶圈密封，配有观察窗，相应的泵、真空计接口、预真空室接口，以及备用法兰接口，极限真空度优于10-７Torr。 (2) 真空系统 主泵采用冷凝泵，粗抽泵采用干泵； 镀膜室和预真空室均配有高、低真空计，粗抽管道配有皮拉尼计。 (3)真空阀系统 主泵和腔体配有高真空阀门，镀膜室和预真空室间配有隔离阀，粗抽管道阀门，充气阀门等必要的阀门。 所有阀门均采用气动并实现计算机控制。 (4)水冷系统 系统需要冷却的部件必须水冷，如电子束源，冷凝泵等，并且配备必须的安全互锁设计，以保护设备。需要提供循环冷却水箱。 (5)电子束沉积系统 一套大于（或等于）4个旋转电子束蒸发源，可手动或者自动旋转并编程控制蒸发坩埚位置，配有气动挡板，方便更换材料。 一个电子发射枪，其发射功率连续可调，保证钯、钪、铝、金、铂等金属都可以从0.1A/s到5A/s速度蒸镀。 基片架可装载一个4英寸（10厘米）基片，可实现最大20转/分钟旋转。基片架可加热至200℃ 以上。 在所有镀膜过程中，保证基片温度低于100℃。 (6)预真空室（Load Lock chamber） 不锈钢结构，4”单基片装载能力，必须带有可同时自动和手动控制的气动阀门。 (7)膜厚检测系统 两个晶振探头，另一个备用，都和计算机实现通讯，可以通过计算机检测镀膜的速度和厚度，可自动控制或编程控制电子束蒸发源、镀膜工艺参数及控制蒸发源挡板，镀膜速度控制可以达到0.1A/s。 (8)控制系统 计算机控制腔体抽真空及充气，冷凝泵再生，电子束蒸发源，基片旋转等； 计算机可实现编程镀膜，一键式操作，多级用户权限设计，用户记录和数据导出。 当个别不影响镀膜过程的部件出现问题（如两个膜厚仪中的一个，或某个可以手动的阀门的自动开关功能），计算机控制系统应允许手动镀膜。 技术指标”基片成膜均匀性：优于+/-3% 镀膜过程中基片温度不得超过100℃ 三、投标要求 本次招标所提供的技术指标供参考，投标人应根据本招标文件中提出的技术指标，提供性能相当或更高的产品，并在投标文件中提供技术应答书或技术建议书。 进口货物供应商必须提供生产厂家的授权经销代理证书原件，所有的产品必须是全新的原装进口产品，供应商必须负责为用户安装调试及培训。 投标人必须提供投标人营业执照有效复印件以及企业法定代表人对投标代表的授权书原件。 投标文件必须包含投标书、开标一览表、投标价格一览表、资格证明文件、投标货物生产经销代理证明或授权书（经销商或代理商）、售后服务承诺及本招标文件要求的其他主要内容，以上材料须加盖投标人公章。 四、投标报价要求 进口货物供应商用CIF厦门的美元价格报价。 五、合同签订 中标供应商接到中标通知后，持中标通知书与用户签订技术和服务协议后再和厦门大学资产与后勤事务管理处签订合同。招标文件、中标供应商的投标文件及其澄清文件均作为签订技术和服务协议、合同订立的基础。 六、验收条件 1．招标文件、投标文件、厂家货物技术标准说明及有关国家的质量标准规定，均作为验收标准。 2．用户应当组织对供应商履约的验收。大型或者复杂的政府采购项目，应当邀请国家认