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用于电子束参数测量的高速分幅相机-深圳大学
33 5 Vol.33, No.5
2006 5 Opto-Electronic Engineering May, 2006
1003501X(2006
1 2 1 2 2 1 1
( 1 621900
2 518060 )
10ns 5ns
10ns
3ns 8 1376×1035Φ80mm
CCD
TB853 A
High-speed multi-frame gated camera for electron beam parameters
measurement
1 2 1 2
JIANG Xiao-guo GUO Bao-ping DENG Jian-jun NIU Han-ben
2 1 1
SHAN Bao-zhong ZHANG Kai-zhi SHI Jin-shui
( 1. Institute of Fluid Physics, CAEP, Mianyang 621900, China;
2. Institute of Optoelectronics, Shenzhen University, Shenzhen 518060, China )
Abstract High-speed multi-frame gated camera for time-resolved measurement of electron beam
parameters (especially for high energy and high current beam)should have the ability of capturing serial
images with 10ns interval time and 3ns exposure timeOne kind of such a high speed multi-frame gated
camera has been developed recentlyIt is a combination of high speed electronics, image intensifier
technology and optical splitter technologyIt is now applied mainly in time-resolved measurement of
electron beamThis system can capture 8 frame images one time in the minimum interval time of 10ns
while the exposure time is 3nsThe frame interval time is 8 level which changes from 10ns to 1280ns in
power of 2 and the exposure time can change in three level of 3ns5ns10nsThe size of images is 1376
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