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- 2017-06-11 发布于湖北
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* * * * * * * * * * * * * 在集成电路掩模制造过程中由于制造设备等的分辨能力的限制,要求版图的几何图形满足一定的尺寸要求。为此对每个工艺线都会制定相应的几何设计规则,如果违反这些规则,就会导致芯片无功能或成品率下降。 在版图设计过程中可能出现电路连接性错误和电学性能上的错误,如短路、开路、悬空端和孤立节点、逻辑功能不正确、电路参数不正确等。 * * * * * 节点电流:Outputs →To Be Saved Select On Schematic 保存仿真参数:Session → Save state netlist and run 与run simulation → Output log 瞬态/静态电压、瞬态/静态电流、幅度、相位、工作状态…… 仿真结果的测量 1、Virtuoso简介 2、如何进入Virtuoso 3、电路图的绘制 4、电路图的仿真与分析 5、版图的绘制 6、版图的验证DRC/LVS 7、版图后仿真 主要内容 必须确保绘制版图需要的工艺文件与版图所在的库是在同一个目录下的 Options→Display →Minor spacing LSW AV (all visible) ;NV (non visible) ; AS (all selectable) ;NS (non selectable) 。 常用的快捷键 r:绘制长
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