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-- 振华真空--真空镀膜 目录 1、真空镀膜介绍1 1.1、真空的定义1 1.2、什么是真空镀膜技术1 1.3、真空镀膜技术的分类1 1.4、镀膜技术介绍1 1.4.1 真空蒸镀1 1.4.2 溅射镀膜2 1.4.3 离子镀膜2 1.5 镀膜材料2 2 真空镀膜设备2 2.1 常见真空镀膜机（外形）2 2.2 常用真空镀膜机3 2.3 各国镀膜机现状3 2.4 真空镀膜机设备参数3 2.5 真空镀工艺参数3 3、镀膜工艺流程4 1 1 11、真空镀膜介绍 1.1 1.1 11..11、真空的定义 真空指低于该地区大气压的稀薄气体状态。 处于真空状态下的气体稀薄程度通常用“真空度高”和“真空度低”来表示。真空度高 表示真空度“好”的意思。真空度低表示真空度“差”的意思。 低真空（一般在760—10托） – 3 中真空（一般在10—10 托） - 3 -8 高真空（一般在10 —10 托） -8 -12 超高真空（一般在10 —10 ） 注：1标准大气压=760mmHg=760Torr 1标准大气压=101325Pa 1Torr=133Pa 1.2 1.2 11..22、什么是真空镀膜技术 在真空条件下利用某种方法，在固体表面上镀一层与基体材料不同的薄层材料，也可以 利用固体本身生成一层与基体不同的薄层材料。这就是真空镀膜技术。在固体表面上镀上一 层薄膜，就能使该基体材料具有许多新的物理和化学性能。因此，真空镀膜技术又称表面改 性技术。 1.3 1.3 11..33、真空镀膜技术的分类 主要分为湿式镀膜法和干式镀膜法。湿式镀膜法可分电镀法、化学镀法；干式镀膜法常 称真空镀膜法、气相沉积——物理气相沉积(Physical Vapor Deposition\PVD)和化学气相 沉积（Chemical Vapor Deposition\CVD)。 1.4 1.4 11..44、镀膜技术介绍 这里主要介绍一下物理气相沉积(Physical Vapor Deposition\PVD)镀膜技术，主要有 以下三种镀膜方法： ·真空蒸镀 ·溅射镀膜 ·电弧离子镀 1.4.1 1.4.1 11..44..11 真空蒸镀 同液体一样，固体在任何温度下都会或多或少的气化（升华），形成该物质的蒸汽。在 高真空中，将镀料加热到高温，相应温度下的饱和蒸汽向上散发，蒸发原子在各个方向的通 量并不相等。基片设在蒸汽源的上方阻挡蒸汽流，蒸汽则在其上形成凝固膜。为了弥补凝固 的蒸汽，蒸发源要以一定的比例供给蒸汽。 1.4.2 1.4.2 11..44..22 溅射镀膜 溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击镀料表面，使被轰击出的粒子在基片上沉 积的技术。 溅射镀膜有三种： 一种是在真空室中，利用离子束轰击靶表面，使溅射出的粒子在基片表面成膜，这称为 离子束溅射。离子束要由特制的离子源产生，离子源结构较为复杂，价格较贵，只是在用于 分析技术和制取特殊的薄膜时才采用离子束溅射。 一种是在真空室中，利用低压气体放电现象，使处于等离子状态下的离子轰击靶表面， 并使溅射出的粒子堆积在基片上。 最后一种是磁控溅射法，又称高速低温溅射法。目前磁控溅射法已在电学膜、光学膜和 塑料金属化等领域得到广泛应用。磁控溅射法是在1.3×10-1pa(10-3Torr)左右的真空中充入 惰性气体，并在塑料基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电，由于辉光放电产生 的电子激发惰性气体，产生等离子体。等离子体将金属靶材的原子轰出，沉积在塑料基材上。 1.4.3 1.4.3 11..44..33 离子镀膜 就是在镀膜的同时，采用带能离子轰击基片表面和膜层的镀膜技术。离子轰击的目的在 于改善膜层的性能。离子镀是镀膜与离子轰击改性同时