Schwarzschild物镜装卡应力对光学元件面形的影响.pdfVIP

第 25 卷第 10 期 强激光与粒子束 Vo l. 25 , No.10 2013 年 10 月 HIGH P O WER LASER AN D PARTICLE BEAMS Oct. , 2013 文章编号: 1001-4 322(2013)10-2599-05 Schwarzschild 物镜装卡应力对光学元件面形的影晌. 王 玲l-2 ， 王新1·2 ， 穆宝忠1·2 ，伊圣振l - 2 ， 朱京涛l· 2 ， 王占山1.2 ( ).同济大学物理科学与工程学院.精密光学工程技术研究所.上海 200092 ， 2. 同济大学敏育部先进徽结构材料重点实验室.上海 200092) 摘 要: 为了实现接近衍射极限的分辨率，工作在极紫外波段的Schwarzschild 物镜要求其光学元件的 面形精度达到约 1 nm(RMS 值h而在物镜的装配过程中，装卡产生的应力会影响光学元件的商形精度.定量 计算装卡应力对元件丽形的影响是获得高分辨率成像的关键.在光学设计、公差分析的基础上，采用有限元模 型系统地分析了应力对 Schwarzschild 物镜光学元件面形精度的影响. 结果表明:采用 自行设计的物镜结构， 应力对主镜面形的影响可以达到 0.7 nm ，而对副镜的影响可以忽略;应力所产生的光学元件丽形变化会使系 统的几何传递函数(5000 Ip/ mm)从 O. 76 下阵jlj O.61 . 关键词: Schwarzschild 物镜; 有限元z 面形误差: 应力 中图分类号: 0434.1 文献标志码: A doi : 10. 3788/ HPLP 2599 工作在极紫外(EUV) 披段的正人射 Schwarzschild 成像系统在较小的视场内(约 1 00μm) 可以实现高分 辨率(小于 100 nm)的成像，在生物医学川 、极紫外光刻掩模极缺陷检测[叫及极紫外微纳米图形制作[叫等领 域得到广泛的应用。在生物医学领域，工作在水窗波段(2.4-4.3 nm) 的 Schwarzschild 光学系统主要用来对 活着的生物样品进行成像.在光刻方面，探测掩模板缺陷的方法主要是采用和光刻相同波长的高分辨率光学 系统对掩模板进行显微成像，目前采用较多的是 Schwarzschild 成像系统。微纳米图形制作是利用极紫外光学 系统将 EUV 聚焦到纳米尺寸，在聚合物(PMMA)表面刻蚀出一定结构的图形o Schwarzschild 系统光学元件 表面镀有 Mo/Si 多层膜，其在 13. 5 nm 波长的反射率可达 65 % ，且带宽仅为 0. 5 nm，能够在焦点处获得更高 的能量密度和光谱纯度，是微纳米图形制作领域理想的聚焦系统之一。 2007 年， F. Barkusky 等利用 Schwarzschild 聚焦系统在 PMMA 样品上制作了线宽为 1μm 的图样[5〕 ;在国内，中国科学院长春光学精密机 械与物理研究所利用微缩结构的 Schwarzschild 物镜在光刻胶上得到了线宽 250 nm 的图样[81 . 本课题组自 2008 年开始研究工作在极紫外波段的 Schwarzschild 成像系统，系统主要面向等离子体诊断和微纳米图形制 作领域[9. 11 ) 0 2010 年，利用研制的 18.2 nm Schwarzschild 成像系统在我国强激光装置上进行了超热电子诊断 实验，获得了高分辨率等离子体图像[叫 。 2011 年，利用研制的 1 3. 5 nm Schwarzschild 聚焦系统以直写扫描的 方式在 Li F 晶体表面制备了亚微米分辨率的微结构图样[ H1 . 在此基础上，目前，我们正在开展接近衍射极限 分辨率的极紫外