微米一亚微米级扫描电镜图像放大倍率校准标样的研制报告.PDFVIP

维普资讯 电子显微学报 J．Chin．Eleetr．Mierose．Soe 15(增刊)：135～136 2OO6年 135 微米一亚微米级扫描 电镜图像放大倍率 校准标样的研制报告 周剑雄 ，陈振宇 (中国地质科学院矿 资源研究所，北京100037) 周期性线距结构或光栅是对 如光学显微镜 、电 10／．tm的方格 网状 图形和线距为 5／．tm的 x、Y双向平 子显微镜或扫描探针显微镜等图像系统进行放大倍 行线条图形 ，内框的中部又是 “回”字形的方框 ，其中 率校准和空间变形评定 的最好样品。由于图像系统 小框里面是线距为 lt-tm的 x、Y双向平行线条 图形 的放大倍率的变化不一定是线性 的，不同放大倍率 (图I)。在 5．／tm和 It．tm的线距结构上还有一些十字 级别需要使用不同长度级别的标准样 品进行校准 ， 形和圆点，可用于在较大放大倍率下图像 的聚集和 因此 ，我们设计了适用于从低倍到高倍 的各级校验 像散调整。不 同的线距大小可用于从 10×～100， 用的标准参考样品，包括以下三个类型：(1)12．5．／tm、 000×放大倍率范 围的校准 ，而把 40．／tm、20．／tm和 25,ttm和百微米尺度的三种栅 网图形标准样 品；(2) 10．t／m的线距结构设计成方格形 ，是为 了在对放大倍 微米．亚微米级图形标准样 品；(3)100nm或更小尺 率进行准确校准的同时，可以对图像的畸变 、像散等 度的一维或二维光栅标准样品。本文将介绍第二种 进行校验 ，5．t／m和 ltsm的线距结构也同时具有 x、Y 类型即微米．亚微米级系列 中最小线距为 lt．tm的图 两个方向的平行线条 ，是为 了方便 同时对 x、Y两个 像放大倍率校准标样 S1000的研制情况 。 方向进行放大倍率 的校准而不必机械旋转标准器。 1 标准样 品的制备方法 为了使该系列标样既可用于扫描 电镜 ，也可用 于光学显微镜 (包括普通光学显微镜和激光共 聚集 显微镜)的放大倍率校准 ，我们分别使用了单晶硅基 片和透明石英玻璃基片两种基质材料 ，并使用相 同 的工艺在两种基质上分别制作 了相同的线距结构。 标准样品基本结构的掩模板是使用紫外光刻技术制 作的，即标准样品上的 40．／tm、20．／tm、10．／tm、5／．tni线距 结构使用的是紫外光刻 ，而 中间的 lt．tm的线距结构 则是在紫外光刻图形的基础上使用电子束光刻技术 进行套刻的。用于扫描 电镜的标准器 ，先在单 晶硅 基片的基底蒸镀了一层约 20nm厚 的金属钛 薄膜 ， 图形光刻完毕之后，又蒸镀 了约 150nm厚 的金属 Au，然后使用金属剥离 (1ift．off)技术处理，完成标准 器的制作 ；用于光学显微镜 的标准器使用 的是透 明 石英玻璃基片，其厚度约0．5mm，也先在基片上蒸镀 了一层约 10nm厚的金属钛薄膜 ，使之仍然透明，但 具有一定 的导电性。如果套刻 ，则后续工艺与单 晶 硅基片的处理方法类似 。 2 标准样品的形状、规格 S1000微米．亚微米级系列标样 ，总体为 5mm× 图1 S1000标样的SEM图像即样板结构分布图。 a：Bar= 1mm；b：Bra=20btm 5mm×0．5mm(长 ×宽 ×厚)大小的小方块。主体 图 形为一个 “回”字形的方框 ，内框里面用 x、Y轴分为 3 标准样品的均匀性 4个象限，4个象限上分别是线距为 40t．tm、20／．tm、 本系列标准样品的片内线距均匀性由德国联邦