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文章主题-YMSMagazine
yield
management
ymssolutions
/ymsmagazine
2008 | 第 1 期
内容 第 2 页
文章主题:
缺陷管理 第 3 页
代工厂经济 第 25 页
检测 第 29 页
量测 第 33 页
产品新闻 第 38 页
欢迎阅读 KLA-Tencor 2008年春季YMS杂志。本
杂志内容可在 CD-ROM 或 /
ymsmagazine 上找到。
内容
缺陷管理 代工厂经济
SEM 检查的进步推动有效产生富有意义的帕 比较成型晶片检测仪的新式决策模型
雷托排列图 Micron Technology, Inc. 和 KLA-Tencor Corporation 第 25 页
Crolles 2 Alliance 和 KLA-Tencor Corporation 第 3 页
检测
使用以设计图为基准的分类来改善 45 奈米生
产的缺陷数量偏移控制 浸没式光刻技术对晶片边缘缺陷的影响
IMEC 和 KLA-Tencor Corporation 第 29 页
United Microelectronic Corporation 和 KLA-Tencor Corporation 第 7 页
缺陷临界性指数 (DCI):在 45 奈米生产环境中大 量测
幅改善关键缺陷取样的新方法 应用散射方式测试复杂的spacer结构来预测器
Toshiba Corporation 和 KLA-Tencor Corporation 第 11 页 件电性能
IBM Microelectronics 和 KLA-Tencor Corporation 第 33 页
在 45 纳米工艺技术节点对激光后期退火表面条
件进行表征的新方法 产品新闻
United Microelectronics Corporation 和 KLA-Tencor Corporation 第 15 页
Aleris 8500, 8350 和 8310 第 38 页
SensArray 蚀刻测量套件 第 39 页
使用 MEEF 驱动缺陷处理的自动优化来解决污
染物检测挑战
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