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材料科学基础位错反应和扩展位错

第 三 章 晶 体 缺 陷 (六) ——实际晶体结构中的位错 4. 位错反应(dislocation reaction) : 分解后的这两个不全位错位于同一滑移面上,其柏氏矢量夹角是60°,它们是互相排斥的,有分开的趋势,在两个不全位错之间夹了一片层错区。 通常我们将这种两个不全位错夹一个层错区的组态称之为扩展位错。 为了降低两个不全位错间的层错能,力求把两个不全位错的间距缩小,则相当于给予两个不全位错一个吸力,数值等于层错的表面张力γ(即单位面积层错能)。 两个不全位错间的斥力则力图增加宽度,当斥力与吸力相平衡时,不全位错之间的距离一定,这个平衡距离便是扩展位错的宽度 d。 运动过程中,若前方受阻,两个偏位错束集成全位错。当杂质原子或其它因素使层错面上某些地区的能量提高时,该地区的扩展位错就会变窄,甚至收缩成一个结点,又变成原来的全位错,这个现象称为位错的束集。 束集可以看作位错扩展的反过程。 由于扩展位错只能在其所在的滑移面上运动,若要进行交滑移,扩展位错必须首先束集成全螺位错,然后交滑移到 面上,重新分解成新的扩展位错,继续运动。 (1) bcc 滑移面有{111} {112} {113} 单位位错 b = a/2〈111〉bcc中易发生交滑移,没有扩展位错,没有位错分解 (2) hcp 全位错 (3)关于离子晶体的位错、共价晶体中的位错、高分子晶体中的位错请参考教材及有关资料。 在外力作用下,扩展位错收缩成原来的全位错的过程称为束集。 (2)扩展位错的束集 总结: 在实际晶体中,由于扩展位错的形成,螺位错的交滑移比全位错的交滑移要困难得多,必须经束集后才能进行。晶体层错能越低,扩展位错的宽度越大,束集越困难,不易交滑移,因此晶体的变形抗力越大。 (3)扩展位错的交滑移 扩展位错的交滑移过程 (3)位错网络 Dislocation network 实际晶体中存在几个b位错时会组成二维或三维的位错网络 设: 面上有扩展位错: 面上有扩展位错: 在相交滑移面上两个扩展位错的领先位错相遇而成 即(a)-BDC面上: 即(d)-ABC面上: 4. 面角位错 (L-C位错、压杆位错) 反应过程—— 滑移面: Lomer-Cottrell位错,面角位错 4. 面角位错 (L-C位错、压杆位错) 该扩展位错在各自的滑移面上相向移动,当扩展位错中的一个不全位错到达交线BC时,发生位错反应: ?B + B? ? ?? 新位错1/6[110]的柏氏矢量在(001)面上,滑移面是(001),因此是固定的纯刃型位错。 另外,它还带着两片分别位于(111)和(11-1)面上的层错以及两个不全位错,在两个(111)面的面角上,这种由于三个不全位错和两片层错构成的位错组态称为Lomer-Cottrell位错 另外,它还带着两片分别位于(111)和 面上的层错以及两个不全位错,在两个(111)面的面角上,这种由于三个不全位错和两片层错构成的位错组态称为Lomer-Cottrell位错 面心立方结构中,在 和 面上有两个全位错b1和b2: 4. 面角位错 (L-C位错、压杆位错) 两个全位错b1和b2发生分解,形成扩展位错: 4. 面角位错 (L-C位错、压杆位错) 在外力作用下,两个扩展位错向两个滑移面的交线处滑移。两个领先不全位错b12和b21在交线[110]处相遇,发生合成反应: 面角位错 反应生成两面一夹角组态的面角位错。 4. 面角位错 (L-C位错、压杆位错) 例 题 一 若面心立方晶体中有 的单位位错及 的不全位错,此二位错相遇后发生位错反应。问: 1、此位错反应能否进行?为什么? 2、写出合成位错的柏氏矢量,并说明合成位错的性质。 解: ①几何条件 ②能量条件 ③ 属于弗兰克不全位错,b与层错面和位错线垂直,故是纯刃型。 例 题 二 试分析在FCC中,下列位错反应能否进行?并指出其中三个位错的性质类型?反应后生成的新位错能否在滑移面上运动? 在A1的单晶体中,若(111)面上有一位错 与 面上的位错 发生反应时, (1) 写出上述位错反应方程式,并用能量条件判明位 错反应进行的方向, (2) 说明新位错的性质; 例题 三 解:(1) 位错反应可以向右进

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