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微型真空传感器制作工艺的研究 - CORE
20 11 4
年第 期 仪 表 技 术 ·67 ·
微型真空传感器制作工艺的研究
，
俞龙发 冯勇建
( ， 361005)
厦门大学 机电工程系 福建 厦门
: ， 、 、 、 、 、 ，
摘要 介绍微型真空传感器制作工艺的流程 阐述了清洗 氧化 光刻 腐蚀 扩散 键合等工艺的方法和特点 分析了制作工艺
， 。
过程中出现的问题并提出解决的方法 最后对制作工艺进行总结
: ; ; ;
关键词 光刻 腐蚀 扩散 键合
中图分类号:TP212 文献标识码:A 文章编号:1006 － 2394 (2011)04 － 0067 － 04
Research of Micro Vacuum Sensor Production Process
YU Long-fa ，FENG Yong-jian
(Mechanical and Electrical Engineering ，Xiamen University ，Xiamen 361005 ，China)
Abstract :In this paper ，Micro vacuum sensor production process is introduced． Methods and characteristics of
cleaning ，oxidation ，lithography ，etching ，diffusion and bonding processes are elaborated． The questions in the produc-
tion process are analyzed and the solutions are proposed． At last ，production process is summarized．
Key words :lithography ;corrosion ;diffusion ;bonding
1．1．1 清洗
0 引言
真空传感器的制作使用的是P ＜ 100 ＞ 双面抛光
MEMS ， 、 ，
技术是一项崭新的技术 它的产生 发展将 的硅片 新的双面抛光硅片必须要经过标准清洗才能
， 。 :
带动众多交叉学科和高新技术产业的发展 是本世纪 投入使用 清洗的步骤为
。 10 ，MEMS (1) 、 、 15min ，
科学研究的亮点 近 年来 的发展令人瞩 用甲苯 丙酮 乙醇分别超声 去除硅
， ， 片表面油脂;
目 相当数量的微型元器件和微型系统研究成功 显现
。 MEMS (2) ( NH OH∶ H O ∶ H O = 1∶ 2 ∶ 5
了其现实的和潜在的应用价值 目前在 器件
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