氟化钙污泥-myRegie.pdfVIP

科技產業廢棄資源物之再利用現況分析 氫氟酸廢液及氟化鈣污泥為例- 工業局永續發展組 顏鳳旗 104年6月24日 簡報內容 一、事業廢棄物來源 二、產出及貯存現況分析 三、清理流向及現況分析 四、資源化處理方式 五、問題檢討 六、推動策略 七、結論 2 一、事業廢棄物來源 產源事業  半導體(IC) 、液晶顯示面板(TFT-LCD) 、太陽能電池(SOLAR CELL) ， 均使用大量的49%氫氟酸 (HF) 。 製程來源 3  HF用以蝕刻 IC 、TFT-LCD面板與太陽能晶圓片後 ， 將產出氫氟酸廢液。  製程產出之廢氫氟酸 ，其廢液濃度有的高達49% ， 有的低到0.5%或數百 ppm ，濃度越低 ，體積 重量( ) 越龐大。 高濃度氫氟酸廢液 (CHF) ：其氟濃度＞0.5﹪ ，為製 程廢水 。 低濃度氫氟酸廢液 (LHF) ：10ppm ＜氟濃度＜0.5％ ，包含低氟濃度製程廢水 、Local scrubber 、Central scrubber排水 。 3 一、事業廢棄物來源 事業廢棄物來源_半導體相關製程 產業鏈：晶圓積體電路封裝電子產品 氟化鈣污泥（R-0910 ） 晶圓 廢水處理設施 有機性污泥（D-0901 ） 無機性污泥（D-0902 ） 蝕刻 廢水 氧化 清洗 擴散 黃光 蝕刻 去光阻 清洗 測試 積體電 沉積 路晶圓 薄膜 廢光罩 廢蝕刻液 廢溶劑(廢 廢矽晶 （D-0499 ） （C-0202 ） 去光阻劑) （R-2505 ） 廢溶劑(廢光阻劑 （C-0301 ） 廢電子零組件、 廢溶劑 、廢顯影液) 廢金屬廢料 （C-0301/D-1504 ） （C-0301 ） （E-0217/E-0221 ） 廢酸 （C-0202/D-1503 ） 廢酸 含氫氟酸: 、鹽酸 、硝酸等 廢蝕刻液 含氫氟酸: 、鹽酸 、硝酸 、磷酸 、醋酸等