HydrothermalSynthesisandPropertiesofOpen-同济大学学报.DOCVIP

蒙特卡罗方法数值模拟二维原子光刻 张萍萍1 马艳1 李同保*，1 (1同济大学物理系，上海 200092) 摘要 间距为半波长的纳米点的制作可以进一步推动纳米计量的发展。基于经典粒子光学模型，采用蒙特卡罗思想提供初始条件，数值分析了偏振方向平行于光场平面、正交激光驻波场形成的光格点的汇聚与沉积特性。针对不同激光功率以及横向发散角分析了沉积纳米点的三维结构，同时也讨论了基板摆放位置对沉积结构的影响。数值模拟结果表明，在厚透镜及沟道化情况下得到了特征较好的纳米点。横向发散角以及基板位置的摆放是影响纳米点质量的重要因素。 关键词 激光光学；原子光刻；纳米计量；纳米点；蒙特卡罗方法 中图分类号 O436 文献标识码 A Numerical Simulation of 2D Atom Lithography Via Monte Carlo Method Zhang Pingping1 Ma Yan 1 Li Tongbao *,1 (1 Department of Physics，Tongji University ,Shanghai，200092，China) Abstract The fabrication of nanodots spaced by half the wavelength can furthur put forwards the development of nanoscale length transfer standard. Focusing and deposition characteristics of quadratic optical lattice formed by two orthogonal standing waves with parallel polarization are numerically analyzed via particle optics model.The initial condition is selected stochastically. Three dimensional（3D）structures of nanodots are studied under different laser power and transverse Gaussian divergence.The effects on nanodots with different deposition positions are also discussed. It is shown that good numercal result can be obtained in immersion lens and channeling regime.Transverse angular distribution and the deposition position dominantly determine the quality of the nanodots. Keywords Laser optics;atom lithography; nanometrology; nanodot; Monte Carlo method 1 引言 各种纳米级科学测量仪器 ,特别是作为纳米科技主要测量和操作工具的原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)等 ,由于受仪器工作原理、 测量对象和环境因素影响 ,用不同仪器检测同一标样 ,或用同一仪器在不同环境下测量同一标样 ,结果可能截然不同。因此 ,研制准确适用的纳米计量传递标准是纳米科技中的关键问题[1 ]。利用激光驻波场原子沉积技术制作的一维原子纳米光栅，其周期直接溯源于原子跃迁频率，可用作纳米计量的标准。原子光刻技术是一种新 收稿日期：2011年5月4日；收到修改稿日期：2011年12月16日 基金项目：国家自然科学基金资助项目. 作者简介：张萍萍（1987），男，博士研究生，主要从事原子光刻方面的研究。Email：zpp_789@163.com 导师简介：李同保（1942），男，工程院院士，博士生导师，主要从事原子操纵、纳米计量方面的研究。Email：tbli@ *通信联系人。E-mail: tbli@ 型的沉积型光刻技术，采用激光场作为掩膜，准直好的中性原子在偶极力的作用下在基板上沉积，从而形成与光场形状一致的纳米结构。1993年，美国NIST的McClelland小组采用激光驻波场作为光场掩膜，制作出了实用的铬纳米光栅结构，光栅间距为212.6nm[2]。2011年，同济大学的李同保教授领导的原子光刻小组首次在国内制成了条纹清晰的纳米光栅，达到了实用性的要求[3]。 一维