纳米压印抗蚀剂研究进展-影像科学与光化学.PDFVIP

　 ２６ 　 ２ 影 像 科 学 与光 化 学 Ｖｏｌ．２６　Ｎｏ．２　 第 卷 第 期 　 　 ２００８ ３ ＩｍａｇｉｎｇＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＰｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｍａｒ．，２００８ 年 月 檭檭檭檭檭殐 檭 殐 檭 　 檭 殐檭 综 述 殐 檭檭檭檭檭 纳米压印抗蚀剂研究进展 ， 　 ， 霍永恩 贾 越 王力元 （北京师范大学 化学学院北京 １００８７５） 　 ： ． 摘 要 纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一 基于其机械压印原 ， 理 纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光衍射或 ． ， 粒子束散射造成的局限 本文介绍纳米压印技术的基本原理 回顾了近期纳米 ． ， 压印抗蚀剂的研究进展 对影响抗蚀剂性能的主要因素进行讨论 包括玻璃化 ／ 、 ／ 、 ． 转化温度 热稳定性 粘度 平均分子量 抗蚀性能等 分别介绍了热压印和紫外 ， （ＰＭ 压印的常见抗蚀剂材料 这些抗蚀剂的主要部分包括聚甲基丙烯酸甲酯 ＭＡ）、 （ ） 、 、 、 有机硅改性的聚 甲基 丙烯酸酯 聚酰胺酯 聚二甲基硅烷 聚乙烯基醚 、 ， 、 ． 化合物 环氧树脂等 并给出这些抗蚀剂体系的优 缺点 本文还介绍了纳米压 ， ． 印抗蚀剂面临的主要问题 对纳米压印技术的优势和问题作了小结 ： ； ； 关 键 词 纳米压印 抗蚀剂 成像 文章编号：１６７４０４７５（２００８）０２０１４８０９　　中图分类号：Ｏ６４　　文献标识码：Ａ ， ， 为适应集成电路技术的迅猛发展 在现有的光学光刻努力突破分辨率极限的同时 ． ， １３—１４ｎｍ 下一代光刻技术在最近几年内获得大量研究 例如 极紫外光刻技术采用波长 ， ， 的光源和精度极高的反射式光学系统 有效降低了折射系统中强烈的光吸收 但整个光 ． ， 刻系统造价非常昂贵 除极紫外光刻技术之外 比较有前景的还有电子束光刻和接近式 Ｘ ， ， ［１］． 射线光刻 但都存在一些不足之处 离工业应用还有一段距离 “