第八章 光催化用TiO_2薄膜中金属掺杂离子存在状态研究进展.pdf

Vol.45 No.11 第 45 卷 第 11 期 中 国 陶 瓷 中 国 陶 瓷 中 国 陶 瓷 2009年 第 11 期 Nov.2009 2007年 第 1 期 2009年 11 月 综述与评述 文章编号 ：1001-9642（2009）11-0014-05 光催化用TiO 薄膜中金属掺杂离子存在状态研究进展 2 邢 卓，王秀峰，程 冰 （陕西科技大学材料科学与工程学院， 西安 710021） 【摘 要】：介绍了国内外在金属离子掺杂改性 TiO薄 律方面，取得了许多成果。这些研究对于光催化 TiO 的 2 2 膜的最新成果。分析取代型、产物型、间隙型、集聚型等 应用、性能的改善等方面都具有重要意义，也面临新的 四类掺杂离子在 TiO2 中的存在形式。介绍了几种金属离子 困难，如掺杂离子存在状态确定、吸光区域红移等。综上， 的掺杂方法。总结了掺杂方法、工艺参数、结构形式及用 笔者将对金属离子掺杂在 TiO 纳米晶薄膜中对吸光性能 2 量对薄膜性能的影响规律。 的影响进展进行介绍。 【关键词】：TiO薄膜，掺杂，光催化，纳米晶 2 1 光催化机理及过程 中图分类号:TQ174.75/TQ032 文献标识码:B 1.1机理 锐钛型 TiO 的禁带宽度为 3.2eV，当它吸收了波长 引 言 2 小于或等于 387.5nm 的光子后，价带中的电子就会被激 纳米晶 TiO 自上世纪 70 年代被日本科学家发现可 2 光照分解水以来一直被广泛关注 [1]。这种材料具有优良的 发到导带，形成带负电的高活性电子 ecb-，同时在价带上 产生带正电的空穴 h + 。空穴能够同吸附在催化剂颗粒表 光学性质、磁学性质、耐化学腐蚀性、良好的塑性、高 vb