硅外延及其应用-云南冶金.PDF

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硅外延及其应用-云南冶金

 2013 6 Jun.2013 42 3 ( 240 )            YUNNANMETALLURGY             Vol42.No3(Sum240)  1,2 2 2 ,   , (1. ,    650031; 2. ,    650500)      : , (MBE)、 (CVD)、 (LPE) , Si 。 :MBE;CVD;LPE; ; + :TN30412  :A  :1006-0308(2013)03-0046-05 EpitaxialSiliconandItsApplication 1,2 2 2 XUYuan-zhi ,HULiang,WUZhong-yuan (1.KunmingYeyanNew-MaterialCo.,Ltd.,Kunming,Yunnan650031,China; 2.CollegeofChemicalEngineering,KunmingUniversityofScienceandTechnology, Kunming,Yunnan650500,China) ABSTRACT:Siliconepitaxygrowthtechnologyisintroduced,andthreekindsoftechnologiesappliedtosiliconepitaxyaresumma rized:molecularbeamepitaxy(MBE),chemicalvapordeposition(CVD),liquiddeposition(LPE),andtheapplicationofSibaseepitaxi almaterialdeviceisalsointroduced. KEYWORDS:MBE;CVD;LPE;siliconepitaxy;application 、 、 PW 、 。 , / 。 , ,95% 99% , MPU、 、 (IC) 。 21 , 、DRAM , CMOS ,

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