负偏压对磁控溅射制备Ru薄膜微结构、膜基结合力-江苏科技大学学报.PDF

第３０卷第５期 江苏科技大学学报（自然科学版） Ｖｏｌ３０ Ｎｏ５ 　 ２０１６年１０月 ＪｏｕｒｎａｌｏｆＪｉａｎｇｓｕＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（ＮａｔｕｒａｌＳｃｉｅｎｃｅＥｄｉｔｉｏｎ）　 Ｏｃｔ．２０１６ 　　　　　　 ｄｏｉ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ．１６７３－４８０７．２０１６．０５．００４ 负偏压对磁控溅射制备Ｒｕ薄膜微结构、膜基 结合力及耐蚀性能的影响 １ １ １ １ ２ ２ １ 许俊华 ，薛雅平 ，鞠洪博 ，贺　盛 ，陈　敏 ，郭丽萍 ，喻利花 （１．江苏科技大学 材料科学与工程学院，镇江２１２００３） （２．江苏时代华谊电子科技有限公司，无锡２１４２００） 摘　要：采用磁控溅射法在Ｍｏ衬底上制备了不同负偏压的Ｒｕ薄膜，利用ＸＲＤ、台阶仪、ＸＰＳ、ＡＦＭ、纳米划痕仪和电化学 工作站对薄膜相结构、表面形貌、膜基结合力以及腐蚀电化学性能进行了研究．结果表明：当负偏压在０～１００Ｖ时，薄膜六 方结构（ｈｃｐ），具有（００２）择优取向．随负偏压的升高，薄膜中出现面心立方（ｆｃｃ）ＲｕＯ相，此时薄膜两相共存，即ｈｃｐ－Ｒｕ＋ ２ ｆｃｃ－ＲｕＯ．薄膜表面粗糙度随负偏压的升高先降低后升高，当负偏压为 １００Ｖ时，薄膜表面粗糙度最低，其最低值为 ２ ０６３９ｎｍ．薄膜的膜基结合力及在３５％ＮａＣｌ溶液中的耐蚀性能先升高后降低，当负偏压为１００Ｖ时，膜基结合力及耐蚀性 能最佳． 关键词：磁控溅射；Ｒｕ薄膜；负偏压；耐蚀性能 中图分类号：ＴＱ１７４　　　　　文献标识码：Ａ　　　　　文章编号：１６７３－４８０７（２０１６）０５－０４３０－０５ Ｅｆｆｅｃｔｓｏｆｔｈｅｎｅｇａｔｉｖｅｂｉａｓｏｎｔｈｅｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ，ａｄｈｅｓｉｏｎ ｓｔｒｅｎｇｔｈａｎｄｃｏｒｒｏｓｉｏｎｒｅｓｉｓｔａｎｃｅｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆＲｕｆｉｌｍｓ ｄｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙｒｅａｃｔｉｖｅｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ １ １ １ １ ２ ２ １ ＸＵＪｕｎｈｕａ，ＸＵＥＹａｐｉｎｇ，ＪＵＨｏｎｇｂｏ，ＨＥＳｈｅｎｇ，ＣＨＥＮＭｉｎ，ＧＵＯＬｉｐｉｎｇ，ＹＵＬｉｈｕａ （１．ＳｃｈｏｏｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＪｉａｎｇｓｕＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｚｈｅｎｊｉａｎｇ２１２００３，Ｃｈｉｎａ） （２．ＪｉａｎｇｓｕＨ．Ｙ．ＴｉｍｅｓＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＣｏ．Ｌｔｄ．，Ｗｕｘｉ２１４２００，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＲｕｆｉｌｍｓｗｅｒｅｐｒｅｐａｒｅｄｗｉｔｈｖａｒｉｏｕｓｎｅｇａｔｉｖｅｂｉａｓｏｎｔｈｅＭｏｓｕｂｓｔｒａｔｅｄｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅ ｒｉｎｇ，ａｎｄｔｈｅｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ，ａｄｈｅｓｉｏｎｓｔｒｅｎｇｔｈａｎｄｃｏｒｒｏｓｉｏｎｒｅｓｉｓｔａｎｃｅｗｅｒｅｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｄｂｙＸＲＤ，ｓｔｅｐｐｒｏｆｉｌｅｒ， ＸＰＳ，ＡＦＭ，ｎａｎｏｓｃｒａｔｃｈａｎｄｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌｗｏｒｋｓｔａｔｉｏｎ．ＴｈｅｒｅｓｕｌｔｓｓｈｏｗｅｄｔｈａｔＲｕｆｉｌｍｓｅｘｈｉｂｉｔｅｄａｓｉｎｇｌｅ ｈｃｐｓｔｒｕｃｔｕｒｅｗｉｔｈ（００２）ｐｒｅｆｅｒｅｎｔｉａｌｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎｗｈｅｎｔｈｅｎｅｇａｔｉｖｅｂｉａｓｗａｓｉｎｔｈｅｒａｎｇｅｂｅｔｗｅｅｎ０ａｎｄ１００Ｖ． Ｗｉｔｈａｆｕｒｔｈｅｒｉｎｃｒｅａｓｅｉｎｔｈｅｎｅｇａｔｉｖｅｂｉａｓ，ｆｃｃ－ＲｕＯｐｈａ