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金属的电化学微区刻蚀方法

第 8 卷  第 2 期 电化学 Vol . 8  No . 2 2002 年 5 月 EL ECTROCHEM ISTR Y May 2002 ( ) 文章编号 :1006- 347 1 2002 02- 0 139- 09 金属的电化学微区刻蚀方法 蒋利民, 田中群 ,刘柱方 ,毛秉伟 ,黄海苟 ,孙建军 (厦门大学化学系 ,固体表面物理化学国家重点实验室 ,福建 厦门,36 1005) 摘要 :  本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 , 比较了掩膜 法 、扫描电化学显微镜法 、约束刻蚀剂层法 、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各 自的特 ( ) ( ) 点. 从加工精度 能否进行微米和纳米级加工 、加工效率 工序复杂程度 ,能否批量制造或复制 、 ( ) 可用范围 主要是能否加工复杂三维立体结构 等各项因素进行了综合分析 ,结果表明 ,各种加工 方法各有其优缺点 ,从总的效果来看 ,约束刻蚀剂层技术在微加工方面具有较大优势. 金属 ;刻蚀 ; 电化学刻蚀 ;约束刻蚀剂层技术 ;微加工 关键词 :   O 646            A 中图分类号 :   文献标识码 :   长期以来 ,微加工研究主要是针对微电子工业的应用而开展的 ,其加工对象大都是半导体 材料 ,如对 Si 、Ge 、GaA s 及各种金属氧化物膜等材料的刻蚀 ,而关于金属及其合金的刻蚀研究 ( ) 则相对较少. 最近几年 ,随着微机电系统 M EM S 研究和应用的深入 ,金属和合金的刻蚀研究 显得越来越重要. 金属材料既具有良好的强度和韧性 ,又有良好的导电导热 , 以及磁学性能 ,在 微机电系统中自然也是主要的材料之一. 目前 ,金属材料在微系统中已有多种多样的应用 ,如 微传感器和微执行器[ 1 ,2 ] 、微热交换器[3 ] 、压电陶瓷材料微加工[4 ] 、微 M EM S 器件[5 ] 、用作微 图形或微结构加工的掩膜[4 ,6 ] 、昆虫神经记录仪[7 ] 等等 ,有些微系统或微电子器件必须依赖于 金属微制造和半导体微制造组合加工才能获得[ 8 ] . 与半导体材料进行微加工的方法相似 ,对 金属材料的微加工也可分为干法刻蚀和湿法刻蚀两种 ,干法刻蚀包括等离子体刻蚀 、电子束加 工 、激光束加工和气态反应性离子刻蚀等等[9 ,10 ] ,湿法刻蚀包括化学刻蚀和电化学刻蚀. 干法刻蚀的最大优点是加工速度快 ,但设备成本高 ,缺乏选择性 ,无法加工出复杂的三维 ( ) ( ) 结构 如球体 、锥体等 ,其中的三束 激光束 、电子束和离子束 加工 ,属于逐点加工 ,无法在一 次加工中获得批量微结构 ,还存在被除去的物质在工件上再沉积的问题 ,并且过高的能量束可 能会改变微结构底部被加工材料的原有特性. 化学刻蚀历史悠久 ,最早出现在宏观尺度的机械 加工工业 , 即所谓的化学铣切 , 弥补了机床加工的一些缺点 ,但当用于微观尺度的加工时 , 由 于它是各向同性的刻蚀 ,当刻蚀过程在掩膜下不断往深处发展时 ,则难于严格限制在所要求 收稿 日期 :200 1

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