电子束微影系统-云嘉南区域教学资源中心-成功大学.PDF

電子束微影系統 (Electron Beam Lithography System) 技術應用研討會 電子束微影為下一世代最關鍵的微影技術之一，與光學微影製程的步驟類似，但是可克 服一般光學微影的繞射極限問題 ，其原理是利用電子束聚焦直寫的方式，直接將AutoCAD設 計直寫於光阻上，在相容的阻劑上產生次微米至奈米等級的精細圖案 ，不須等待光罩的製作， 可以快速地將研究上的想法實現 。 成功大學微奈米科技研究中心的電子束微影設備(ELS-7500 EX) ，有別於一般SEM中附屬 的 EBW ，具有優異之X 、Y 、Z 定位機制，以及 50 kV加速電壓，能長時間提供穩定的超細電 子束(最小直徑 2nm) ，製作最小 10 nm寬的圖形。 本次研討會將簡介電子束微影製程，以及介紹電子束曝光鄰近效應校正與圖形數據處理 軟件 Layout BEAMER的功能與使用技巧 ，歡迎各位的參與。 主辦單位：微奈米科技研究中心、雲嘉南區域教學資源中心、德國 GenISyS GmbH 公司 研討會時間： 2011 年6月 15日 (星期 三) 上午10 ：00—12 ：00 研討會地點： 成功大學自強校區 儀器設備大樓四樓會議室 95416 室 聯絡人/電話 / e-mail ：許郁佩 小姐 (06)2757575ext31380 mimi@.tw 報名方式 ：網站報名以領取資料 ，免費報名，座位有限。 (報名 1 次未到將取消日後參加中心其他活動資格) 報名網址：.tw/bin/home.php 時間 議程 講師 09 ：40~10 ：00 報到 成大微奈米科技研究中心 10 ：00~10 ：10 主持人致詞 莊文魁 教授 成大微奈米科技研究中心 10 ：10~10 ：40 電子束微影系統簡介 鍾崇仁 博士 電子束曝光鄰近效應校正技術與圖形數 GenISyS GmbH亞洲總裁 10 ：40~11 ：40 據處理技術簡介 John Thomas Sachen 先生 GenISyS GmbH 11 ：40~12 ：00 軟體介紹示範 Nit Taksatorn (陳利奇 ) 12 ：00~12 ：10 問題與討論 Layout BEAMER 具有三大功能： 1)圖形數據處理功能。 2)圖形數據格式轉換功能 。(GDSII 、CIF 、DXF 、Elionix 、JEOL 、Vistec ，及手編數據格式的轉換功能。 3)電子束鄰近效應校正數據處理功能和電子束曝光光阻吸收能量模擬功能 。電子束曝光鄰近效應是由高能電子在光 阻和基板上散射所造成 ；散射使曝光範圍擴散, 造成光阻層中的沉積能量分佈不均勻 ，而影響了成像質量。尤其是採 用電子束曝光50nm 以下圖形或者復制密集電路圖形時鄰近效應影響極其嚴重，必須採用鄰近效應校正技術才能實現 比較理想的曝光結果。