真空镀膜技术的现状及进展 - 仪器信息网.PDF

!# 年第 期 总第 期 真空镀膜技术的现状及进展 -4 $ %! 真空镀膜技术的现状及进展 邸英浩 曹晓明 （天津河北工业大学材料学院， ） ! #! ［摘要］ 介绍了在真空条件下真空蒸发镀、溅射镀膜和离子镀等镀膜技术的概念和这几种真空镀膜技术的特点、应用及 发展的前景。 关键词 真空蒸发镀 离子镀 磁控溅射 发展趋势 ! 前言 用的设备。 镀膜技术也叫薄膜技术，是在真空条件下采用物 直枪是一种轴对称的直线加速枪，电子从灯丝阴 理或化学方法，使物体表面获得所需的膜体。镀膜技 极发射、聚成细束，经阳极加速后打在坩锅中使镀膜 术是最初起源于 世纪 年代，直到 年代后期 材料熔化和蒸发。直枪的功率可变范围较大，有的可 $ ! % 才得到较大发展的一种技术。目前已被广泛应用于耐 用于真空蒸发、有的可用于真空冶炼。直枪的缺点是 酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子 蒸镀的材料会污染枪体结构，给运行的稳定性带来困 集成、能源等领域。 难，同时发射灯丝上逸出的钠离子等也会引起膜层的 真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气 玷污。最近由西德公司研究，在电子束的出口处设置 相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积 偏转磁场，并在灯丝部位制成一套独立的抽气系统而 薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄 做成直枪的改进型式，不但彻底改变了灯丝对膜的污 膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是 染，而且还有利于提高枪的寿命。 镀膜的必要条件。#’ + 型电子枪，即$%,偏转的电子枪克服了直枪的 $’ 缺点，是目前用得较多的电子束蒸发源之一。 型电子 真空蒸发镀膜技术 + 真空蒸发镀膜法 简称真空蒸镀 是在真空室中， 枪的特点是可以产生很高的功率密度，能熔化高熔点 ( ) 加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分 的金属，产生的蒸发粒子能量高，使膜层和基体结合 子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固体(称为衬 牢固，成膜的质量较好。缺点是电子枪要求较高的真 底或基片)表面，凝结形成固态薄膜的方法。 空度，并需要使用负高压，造成了其成本高昂，维护起 蒸发源是蒸发装置的关键部件，根据蒸发源不 来比较繁琐。 同，真空蒸发镀膜法又可以分为下列几种。 空心阴极电子枪是利用低电压、大电流的空心阴 $*# 电子束蒸发源蒸镀法 极放电产生的等离子电子束作为加热源。利用空心阴 电子束蒸发镀是将蒸发材料放入水冷铜坩锅中， 极电子枪蒸镀时，产生的蒸发粒子能量高、离化率也 直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在 高，因此，成膜质量好。空心阴极电子枪对真空室的真 基板表面形成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要 空度要求比+ 型电子枪低，而且是使用低电压工作， 的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻 相对来说，设备较简单和安全，造价也低。目前，在我