镀制工艺对TiO2光学膜层折射率影响研究.pdf

第29卷 第3期 真 空 科 学 与 技 术 学 报 2009年 5、6月 CHINESEJOURNALOFVACUUMSCIENCEANDTECHNOLOGY 镀制工艺对 TiO2光学膜层折射率影响研究 耿桂宏 (北方民族大学 银川 750021) DepositionConditionsandRefractiveIndexofTiO2Films GengGuihong (＆扣ngEthnicUniwersity，Yinchuan750021，Ch／na) Abstract TheTi02filmsweregrownbyionbeam assisteddepositiononglasssubstrates．TheinfluenceoftheTi02 film growthconditions，includinghtesubstratetemperature，depositionrate，oxygenpartialpressure，and ionbeam assis— tanee，ontherefractiveindexesofhtefilmsWas studide ．Themicrostructuresofhtefilmswere characterizde wiht X—my diffraction(XRD)andatomicforcemicroscopy(AFM)．Theresultsshowthathtesubstratetemperature，depositionrate andionbeam assistanceallstronglyaffecthteopticalpropertiesofhtefilms．Forexma ple．hterefractiveindexincreases wiht na increaseofhtesubstratetemperature，nadmaximizesatallincreasingdepo sitionrate．Besides，hteionbema assis- tancesignificnatlyenhanceshterefractiveindex．Th eTi02ma orphousfilmshavehig【hrefractiveindexbutlow opticalde— pletion． Keywords Ti02optical htinfiml ，Refractiveindex，Depositionprocesses 摘要 研究分析了基底温度、沉积速率、氧气分压、离子束辅助沉积等工艺参数和条件对rri02膜层折射率的影响。研究 表明，随着基底温度升高，T 光学膜层折射率呈上升趋势；随着沉积速率提高，ri02膜层折射率存在极值；采用离子束辅助沉 积工艺，可以有效提高 02膜层折射率值，所制备的Ti02膜为非晶态结构，具有较高的折射率和较小的光学损耗。 关键词 Ti02膜层 折射率 镀制工艺 中图分类号：O484 文献标识码：A doi：10．3969／j．issn．1672—7126．2009．03．10 TiO2薄膜坚硬而又抗化学腐蚀，在整个可见光 晶态和晶态两种结构2，晶态结构中，又包括锐钛 区和近红外光谱区都是透明的，并且有很高的折射 矿、金红石、板钛矿三种不同晶格结构。研究表 率值。所以在光学薄膜技术发展过程中，Ti02制备 明L3J，采用电子束蒸发制备 TiO2时，随着基底沉积 很早就被人们所重视。1965年出现了电子束加热 温度的变化，Ti02非常容易出现结晶现象(锐钛矿结 蒸发制备 TiO2薄膜技术，使蒸发各种氧化钛相的初 构)。多晶态Ti02薄膜与非晶态的TiO2相比，具有 始膜料特别是蒸发Ti：03等初始膜料制备TiO2薄膜 膜层折射率不稳定，散射损耗大等缺点，应当尽力避 成为可能。