电浆辅助气相化学沈积装备 - 材料工程系.PDF

材 料 工 程 系 儀器名稱 ： 電漿輔助氣相化學沈積裝備 儀器負責人 ： 阮弼群 教授 分機 ： 4680 地點 ：綜合大樓2樓 物理鍍膜實驗室 儀 磁控濺鍍機基本原理： 高能電場加速的正離子衝擊到固體表面，固體表面的原子和分子在與這些高能粒子交換動能後，就從固 體表面飛出來，此現象稱之為「濺射」。先利用電場使兩極間產生電子，這些加速電子會與鍍膜室中己預先充 器 入的惰性氣體碰撞，使其帶正電，這些帶正電的粒子會受陰極（靶材 ）吸引而撞擊陰極，入射離子（通常用 氬氣）受到電場作用獲得動量，撞擊靶材表面的原子，這些原子受到正電離子的碰撞得到入射離子的動量轉 移，被撞擊的靶材表面原子因接受入射離子的動量，對靶材表面下原子造成壓擠使其發生移位，此靶材表面 原 下多層原子的擠壓，會產生垂直靶材表面的作用力而把表面原子碰撞出去，這些被碰撞出去的原子（沿途尚 可將中性氬原子碰撞成帶正電），最後終於沉積在基板（陽極）上形成薄膜。 理 操 開機 暖機( )步驟： 1. 將系統開關轉至ON ，進入系統操作畫面 儀器圖片 : 2.開啟 RP 3. 待 30秒後開啟FV 4. FV開啟 30秒後，啟動TP 5.確認 TP 控制器之燈號是否正常。 6.確認無誤後開機 暖機( 即完成。) 作 腔體抽真空步驟： 1.開啟畫面中之 vent valve 2.依製程需求，放好相關之 target 及sample 3.關閉腔門後關閉 vent valve 進行初抽 4.關閉 FV 5.開啟 RV 6. 待真空度達4.0*10-2 Torr 以下 7.關閉 RV 方 8.開啟 FV ，等待30秒 9.開啟 MV 10.待真空度達5.0*10-6 Torr 以下，即完成抽氣動作，可開 始進行薄膜鍍製 法 注 1.開機前請確認電源箱之總開關是否開啟。 2.開機前要先確認 N2 （氮氣）、Ar （氬氣）、O2 （氧氣）鋼瓶是否開啟及是否有氣。 3.開機前要先確認冰水機之水位是否正常。 意 4確認. DC 及RF generator 與sputtering cathode是否接妥 (依製程需求選擇需要之 sputtering cathode) 事 5.檢查機械 pump 油位是否正常。（不能低於兩線中的一半） 項