氧化时间对ZL205A铝合金微弧氧化膜层的影响.PDFVIP

第45 卷 第10 期 稀有金属材料与工程 Vol.45, No. 10 2016 年 10 月 RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING October 2016 氧化时间对ZL205A 铝合金微弧氧化膜层的影响 李宏战，李争显，杜继红，李少龙，叶源盛 (西北有色金属研究院，陕西 西安 710016) 摘 要：在硅酸钠体系溶液中，研究了不同氧化时间对ZL205A 铝合金表面微弧氧化层表面形貌、厚度、元素分布及相 组成的影响。结果表明，随氧化时间的增加，氧化膜表面微孔数量减少、孔径增大，膜层厚度不断增大；膜层中的Al 、 Si 元素略有变化，O 、P 元素变化并不明显；氧化膜主要由α-Al O 和Mullite （Al Si O ）组成，随着氧化时间的增加， 2 3 6 2 13 膜层中的α-Al O 和Mullite 相含量不断提高，Mullite 相主要由阳极反应中生成的 SiO 及Al O 共同作用而产生。 2 3 2 2 3 关键词：微弧氧化；氧化时间；ZL205A ；铝合金 + 中图法分类号：TG 146.2 1 文献标识码：A 文章编号：1002- 185X(2016) 10-2741-05 ZL205A 是高强高韧铸造铝合金的典型代表，因 验通过研究氧化时间对ZL205A氧化层的影响，揭示膜层 其具有密度低、强度高、加工性能及焊接性能良好等 生长及陶瓷层的形成，对实际应用微弧氧化技术在 [1] ZL205A表面制备陶瓷涂层有重要意义。 特点，被广泛应用于航空、航天、船舶及其民用领域 。 随着航空航天及兵器工业的快速发展，对铝合金材料 1 实 验 耐磨、耐蚀、绝缘性能提出了更高的要求。因此，需 要通过适当的表面处理技术，制备耐磨、耐蚀涂层以 试验材料为ZL205A铝合金，成分为（质量分数，% ）： [2] 4.6 ～5.3 Cu ，0.3～0.5 Mn ，0.15～0.35 Ti ，0.15～0.25 Cd ， 提高使用性能 。 微弧氧化是在普通阳极氧化的基础上，利用弧光放 0.05 ～0.3 V ，0.005 ～0.06 B ，Al 余量。试样尺寸为30 电增强并激活在阳极上发生的反应，从而在以铝、钛、 mm×30 mm ×10 mm ，膜层制备在MAO-300型脉冲微弧氧 镁金属及其合金为材料的工件表面形成优质的强化陶瓷 化设备上进行，氧化溶液为硅酸钠+磷酸钠体系，氧化过 膜的方法。它突破了传统阳极氧化的电压局限，在工件 程中溶液温度控制在20～25 ℃。氧化采用恒压控制，控 表面形成微弧放电，在高温、电场等因素的作用下，使 制电压(500 ±2) V ，固定频率600 Hz ，占空比15%，氧化 金属表面形成陶瓷膜，达到工件表面强化、提高材料耐